[发明专利]光纤预成型的制造方法在审
申请号: | 202010049336.2 | 申请日: | 2020-01-16 |
公开(公告)号: | CN112390521A | 公开(公告)日: | 2021-02-23 |
发明(设计)人: | 桑迪普·盖克瓦德;索拉布·卡普尔;巴德里·戈马塔姆 | 申请(专利权)人: | 斯特里特技术有限公司 |
主分类号: | C03B37/012 | 分类号: | C03B37/012 |
代理公司: | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人: | 顾一明 |
地址: | 印度马哈拉施特拉邦奥兰加巴德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光纤 成型 制造 方法 | ||
本公开提供了一种用于制造光纤预制件的(108)。该方法包括使用一个压模(114)和冲压机(112)压制二氧化硅颗粒(102)的第一步骤。的二氧化硅颗粒(102)被加载到周围的圆柱形杆(116)的压模(114)的腔中。的二氧化硅颗粒(102)被压缩,以形成具有预定形状紧凑对象。该方法包括与所述圆柱形杆(116)烧结该压实的对象以形成光纤预制件(108)的另一步骤。紧凑对象的烧结是在气体环境进行。该方法便于在制造光纤预制件(108),其是免费的材料损失的制造光纤预制件(108)的过程中减少锥。
技术领域
本披露涉及光纤领域。更具体地说,本披露涉及一种利用热压技术制造光纤预制件的方法。
发明背景
传统的化学气相沉积(CVD)工艺,如外部气相沉积(OVD)和气相轴沉积(VAD)工艺用于制造光纤预制件。OVD工艺中涉及的基本过程称为火焰水解,用于硅颗粒的沉积。在火焰水解过程中,SiCl4与氧气发生反应,产生二氧化硅(SiO2)和HCl。OVD工艺在沉积过程中导致大量硅颗粒损失,成为光纤预制件。此外,OVD工艺是一个限制过程,具有复杂的机器设计,用于批量制造光纤预制件。此外,通过OVD工艺,优化生产规模变得极具挑战性。
鉴于上述讨论,需要改进光纤预制件的制造方法。
发明内容
本披露内容包括光纤预制件的制造方法。该方法包括使用压模和冲压机压实二氧化硅颗粒的第一步。此外,该方法还包括用棒烧结压实的物体形成光纤预制件的另一个步骤。二氧化硅颗粒被加载到杆周围的压模的腔中。
将二氧化硅颗粒压实以形成一个紧凑的本体与预定义形状。压实对象的烧结是在受控的气氛中进行。
本发明谈到的制造光纤预制件的方法。该方法包括使用一个压模和冲压机压实的二氧化硅颗粒的第一步骤。此外,该方法包括用圆柱形杆烧结压实对象以形成光纤预制件的另一步骤。二氧化硅颗粒被装入包围圆柱形杆的按压模具的空腔。将二氧化硅颗粒压实以形成一个紧凑的本体与预定义形状。压实对象的烧结是在受控的气氛中进行。该方法便于在制造光纤预制件,其不含锥体。
在本公开的一个实施方案中,二氧化硅颗粒的压实对应于按下的二氧化硅颗粒。
在本公开中,光纤预制件是锥形自由对应于在顶侧和底侧具有平坦表面的光纤预制件的实施例。在本公开的其它实施方式中,光纤预制件可以是与在顶侧和底侧小的曲率的表面。
在本公开的一个实施例中,受控气氛包括一种或多种气体。所述一种或多种气体包括氯,氟,氦气,氩气,一氧化二(N.)。在本公开的一个实施方案中,一种或多种气体独立地存在。在本公开的另一个实施方案中,一种或多种气体是彼此适当组合。此外,压实的二氧化硅颗粒的烧结被受控气氛下进行,以使所述光纤预制件无气泡。
在本公开的一个实施例中,光纤预制件的预定形状,实现基于该结构或压模的结构和冲压机。
结构或压制模具和冲压机的结构限定的几何形状的光纤预制件。
在本公开的一个实施例中,二氧化硅粒子是在模具组件中压实。该模具组件包括压模和冲压机。模具组件的材料包括但不限于钢,急速合金,碳中的一个,碳化硅,铝,铝箔,聚四氟乙烯,高密度聚乙烯,和橡胶。
在本公开的一个实施例中,光纤预制件是中空的圆筒形状的一个执行和圆柱状预成型件。
在本公开的一个实施例中,光纤预制件的直径的范围为约50毫米至300毫米。光纤预制件具有范围的约50毫米至2000毫米的长度。光纤预型体具有范围为每立方厘米约0.3克每立方厘米2.2克的密度。
在本公开的一个实施例中,圆柱形杆是模具棒和芯棒之一。另外,芯棒是用于制造光纤预制件的掺锗石英玻璃。
本发明的一个主要目的是提供一种用于制造使用热压的光纤预制件的提供的方法。
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