[发明专利]一种基于放射性惰性气体的滞留环衰减的气体控制设备

权利要求书

1.一种基于放射性惰性气体的滞留环衰减的气体控制设备，其结构包括：内芯管(1)、并行端口(2)、电磁极板块(3)、密封圈帽(4)、梭环衰减筒体(5)、继电座(6)、四通阀座(7)，其特征在于：

所述梭环衰减筒体(5)插嵌在四通阀座(7)的顶部上，所述继电座(6)嵌套于四通阀座(7)的左侧，所述梭环衰减筒体(5)与密封圈帽(4)相配合，所述并行端口(2)安装于电磁极板块(3)的顶部上，所述电磁极板块(3)与继电座(6)电连接，所述内芯管(1)插嵌在继电座(6)与四通阀座(7)的内部，所述电磁极板块(3)安装于继电座(6)的顶部上，所述梭环衰减筒体(5)紧贴于电磁极板块(3)的右侧；

所述梭环衰减筒体(5)设有进气抽管(5A)、集电框环(5B)、碳刷转盘架(5C)、短轴杆(5D)、波纹管道架(5E)、筒槽体(5F)、排气通管(5G)；

所述进气抽管(5A)与排气通管(5G)分别插嵌在筒槽体(5F)内部的左右下角，所述波纹管道架(5E)插嵌在集电框环(5B)的顶部上，所述集电框环(5B)与筒槽体(5F)相配合，所述集电框环(5B)与碳刷转盘架(5C)活动连接，所述碳刷转盘架(5C)与短轴杆(5D)机械连接，所述进气抽管(5A)通过波纹管道架(5E)与排气通管(5G)相互贯通，所述筒槽体(5F)插嵌在四通阀座(7)的顶部上，所述筒槽体(5F)与密封圈帽(4)相配合。

2.根据权利要求1所述的一种基于放射性惰性气体的滞留环衰减的气体控制设备，其特征在于：所述进气抽管(5A)由通气柱块(5A1)、进气管(5A2)、抽气罩(5A3)组成，所述通气柱块(5A1)嵌套于进气管(5A2)的顶部上，所述进气管(5A2)插嵌在抽气罩(5A3)的顶部上。

3.根据权利要求2所述的一种基于放射性惰性气体的滞留环衰减的气体控制设备，其特征在于：所述抽气罩(5A3)由罩盖槽(5A31)、集气端筒(5A32)、分支气管(5A33)、球囊筒(5A34)组成，所述集气端筒(5A32)插嵌在罩盖槽(5A31)的顶部上，所述集气端筒(5A32)通过分支气管(5A33)与球囊筒(5A34)相互贯通。

4.根据权利要求1所述的一种基于放射性惰性气体的滞留环衰减的气体控制设备，其特征在于：所述碳刷转盘架(5C)由转盘体(5C1)、电极端块(5C2)、碳刷块(5C3)组成，所述转盘体(5C1)与电极端块(5C2)扣合在一起，所述电极端块(5C2)与碳刷块(5C3)活动连接。

5.根据权利要求4所述的一种基于放射性惰性气体的滞留环衰减的气体控制设备，其特征在于：所述电极端块(5C2)由铜丝线(5C21)、引脚芯杆(5C22)、磁铁电极块(5C23)、凹槽端块(5C24)组成，所述铜丝线(5C21)与引脚芯杆(5C22)相配合，所述引脚芯杆(5C22)插嵌在磁铁电极块(5C23)的左侧，所述磁铁电极块(5C23)安装于凹槽端块(5C24)的内部。

6.根据权利要求1所述的一种基于放射性惰性气体的滞留环衰减的气体控制设备，其特征在于：所述波纹管道架(5E)由波纹管(5E1)、抽气框盘(5E2)组成，所述波纹管(5E1)与抽气框盘(5E2)相配合，所述波纹管(5E1)贯穿抽气框盘(5E2)的内部。

7.根据权利要求6所述的一种基于放射性惰性气体的滞留环衰减的气体控制设备，其特征在于：所述抽气框盘(5E2)由集气槽管(5E21)、罩帽块(5E22)、增压座(5E23)、厚框碟盘(5E24)组成，所述集气槽管(5E21)与罩帽块(5E22)插嵌成一体，所述罩帽块(5E22)与增压座(5E23)扣合在一起，所述增压座(5E23)紧贴于厚框碟盘(5E24)的前侧。

8.根据权利要求1所述的一种基于放射性惰性气体的滞留环衰减的气体控制设备，其特征在于：所述排气通管(5G)由格栅梯形槽(5G1)、通管体(5G2)、排气弯管(5G3)组成，所述格栅梯形槽(5G1)嵌套于通管体(5G2)的顶部上，所述通管体(5G2)插嵌在排气弯管(5G3)的顶部上。

9.根据权利要求8所述的一种基于放射性惰性气体的滞留环衰减的气体控制设备，其特征在于：所述格栅梯形槽(5G1)由厚隔垫条板(5G11)、斜格栅板(5G12)、导流椭片(5G13)、梯形槽体(5G14)组成，所述斜格栅板(5G12)与导流椭片(5G13)扣合在一起，所述厚隔垫条板(5G11)与斜格栅板(5G12)焊接成一体，所述厚隔垫条板(5G11)设有两个并且分别紧贴于梯形槽体(5G14)内部的左右两侧。