[发明专利]一种Al-Si-Mn-Fe-Ga高熵十次准晶的制备方法有效
申请号: | 202010015158.1 | 申请日: | 2020-01-07 |
公开(公告)号: | CN111004958B | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 何战兵;赵良群;苗定豪;马海坤 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | C22C30/00 | 分类号: | C22C30/00;C22C1/02;B22D11/06 |
代理公司: | 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 | 代理人: | 张仲波 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 al si mn fe ga 高熵十次准晶 制备 方法 | ||
1.一种Al-Si-Mn-Fe-Ga高熵十次准晶的制备方法,其特征在于:
1)将金属Al纯度99.99%,Si纯度99.99%,Mn纯度99.99%,Fe纯度99.99%,Ga纯度99.99%,按照原子比为20 : 20 : 20 : 20 : 20配料,选择真空感应熔炼炉进行熔炼,其额定温度为1700℃高温,得到Al20Si20Mn20Fe20Ga20高熵合金铸锭;
2)取熔炼好的Al20Si20Mn20Fe20Ga20高熵合金铸锭,用真空甩带机制备快速凝固的甩带薄片。
2.如权利要求1所述的Al-Si-Mn-Fe-Ga高熵十次准晶的制备方法,其特征在于步骤2)所述真空甩带机工艺参数为:快速凝固的辊速:25 m/s,保护气体:氦气,炉体压力:0.2 Pa,喷包压力:0.02 MPa,冷却水压力:0.2 MPa,冷却水温度:27℃。
3.根据权利要求1所述Al-Si-Mn-Fe-Ga高熵十次准晶的制备方法,其特征在于步骤2)所述Al20Si20Mn20Fe20Ga20合金薄片,平均厚度为50 μm,薄片平均直径为2 mm。
4.根据权利要求1所述Al-Si-Mn-Fe-Ga高熵十次准晶的制备方法,其特征在于步骤2)所述Al20Si20Mn20Fe20Ga20合金薄片,由于贴辊面和自由面的冷速不同,分为贴辊面和自由面两个区域,贴辊面主要为纳米晶,自由面主要为柱状晶。
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