[其他]增材制造系统

权利要求书

1.一种增材制造系统，包括：

基座组件，其包括：

构建窗口，其对在光引发范围内的电磁辐射是基本上透明的；

投影系统：

其被布置在所述构建窗口的下表面下方；并且

其被构造成朝向所述构建窗口的上表面投射所述光引发范围内的电磁辐射；

托盘座，其围绕所述构建窗口的周界布置；以及

流体分配端口，其靠近所述构建窗口布置；以及

托盘组件，其被构造成在接合构型中与所述基座组件接合，所述托盘组件包括：

托盘结构：

其限定托盘孔；并且

其限定配准特征，所述配准特征被构造成接合所述托盘座，以在所述接合构型中将所述托盘孔定位成靠近所述构建窗口的所述上表面；以及

分离膜：

其跨过所述托盘孔被张紧；

其被构造成在所述接合构型中响应于气体经由所述流体分配端口从所述基座组件与所述托盘组件之间的间隙区域排空而层压在所述构建窗口的所述上表面上；以及

其被构造成响应于气体经由所述流体分配端口注入到所述间隙区域中而与所述构建窗口分离。

2.根据权利要求1所述的增材制造系统，其中，所述基座组件还包括间隙垫圈：

其外接所述流体分配端口和所述构建窗口；

其被构造成在所述接合构型中接触所述分离膜；

其被构造成密封所述间隙区域内的气体到高至大于最大运行压力的最大压差。

3.根据权利要求1所述的增材制造系统，还包括界面垫圈：

其被布置在所述托盘结构的下表面与窗口平台的在所述接合构型中支撑所述构建窗口的基部之间；

其在所述接合构型中外接所述托盘孔、所述流体分配端口和所述构建窗口；并且

其被构造成密封所述间隙区域内的气体到高至大于最大运行压力的最大压差。

4.根据权利要求1所述的增材制造系统，其中，所述基座组件还包括流体分配通道：

其外接所述构建窗口；并且

其被构造成在所述间隙区域中均匀地分配气体。

5.根据权利要求1所述的增材制造系统，其中，所述基座组件进一步包括被构造成在所述接合构型中穿过所述托盘孔而抵靠所述分离膜突出的构建窗口。

6.根据权利要求1所述的增材制造系统，其中，所述托盘组件进一步包括在所述接合构型中在所述构建窗口上方并且基本上平行于所述构建窗口地跨过所述托盘孔被张紧的分离膜。

7.根据权利要求1所述的增材制造系统，其中：

所述基座组件进一步包括由刚性玻璃制造的构建窗口；并且

所述托盘组件进一步包括由结晶全氟烷氧基烷烃制造的分离膜。

8.根据权利要求1所述的增材制造系统，

其中所述托盘组件进一步包括限定在50微米与200微米之间的第一厚度的分离膜；并且

所述增材制造系统还包括第二托盘组件，所述第二托盘组件包括：

所述托盘结构；以及

第二分离膜：

其限定小于50微米的厚度；

其跨过所述托盘孔被张紧；

其被构造成在所述接合构型中响应于气体经由所述流体分配端口从所述基座组件与所述托盘组件之间的间隙区域排空而层压在所述构建窗口的所述上表面上；并且

其被构造成响应于气体经由所述流体分配端口注入到所述间隙区域中而与所述构建窗口分离。

9.根据权利要求1所述的增材制造系统，其中，所述托盘结构还包括：

上部构件，其限定包括一组张紧柱的一组凸特征；

下部构件，其限定一组凹特征，所述一组凹特征被构造成与所述一组凸特征接合；以及

所述分离膜：

其被布置在所述上部构件与所述下部构件之间；并且

其限定第三组穿孔，所述第三组穿孔以在所述分离膜与经由过盈配合张紧所述分离膜的所述一组张紧柱之间的过盈配合从所述一组张紧柱向外偏移。