[发明专利]显示装置及显示装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 201980099392.2 申请日: 2019-09-19
公开(公告)号: CN114375613A 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 仲西洋平;兼弘昌行 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: H05B33/26 分类号: H05B33/26;G09F9/30;H01L51/50;H05B33/10;H05B33/12;H05B33/14;H05B33/28
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 郝家欢
地址: 日本国大*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置 制造 方法
【说明书】:

在显示装置(2)中,第二电极(25)包含银纳米线(NW)。在边框区域(NA)中,限定第二电极(25)的端部的堤(Qa、Qb)设置成框状。在堤(Qa、Qb)的显示区域(DA)侧,设置有导电膜(AW),该导电膜(AW)与银金属纳米线(NW)接触,且将端子部(TA)与第二电极(25)电连接。在该导电膜(AW)中,设置有与银纳米线(NW)接触的接触部(CP)。另外,在接触部(CP)中在与银纳米线(NW)的接触表面处形成有多个凹凸(De)。

技术领域

本发明涉及一种显示装置及显示装置的制造方法。

背景技术

近年来,在顶部发射型的显示装置中,作为其上部电极,已知有使用了包含有金属纳米线的透明导电膜的显示装置(例如,参照下述专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特开2011-29037号公报

发明内容

本发明所要解决的技术问题

然而,在如上所述的现有的显示装置中,其上部电极(第二电极)通过将包含有上述金属纳米线的溶液涂布在所有像素的发光层的上方,形成为该所有像素共用的共用电极。因此,在上述那样的以往的显示装置中,在包围其显示区域的边框区域,设置有限定上部电极的端部的框状的堤,以防止上述溶液向外部漏出。而且,在上述那种现有的显示装置中,在上述堤的显示区域侧设置有接触部,该接触部由导电膜构成,与上部电极中所包含的金属纳米线接触,且将上部电极和用于从外部电源向该上部电极供给电压的端子部电连接。

然而,在上述那种现有的显示装置中,有时上部电极的电阻局部变大。具体而言,在上述那种现有的显示装置中,通过涂布上述溶液,形成了包含有金属纳米线的上部电极,但在涂布时,有时产生多个金属纳米线在接触部上相互平行地排列的部分,在该部分的上部电极的电阻有时会局部变大。其结果是,在如上所述的现有的显示装置中,有可能在上部电极与端子部之间产生接触不良,不能对上部电极适当地进行电压供给,产生显示不良。

鉴于上述问题,本发明的目的在于,提供能够防止第二电极的电阻局部变大的显示品质优异的显示装置及显示装置的制造方法。

解决问题的方案

为了达成上述目的,本发明所涉及的显示装置具备:显示区域;以及边框区域,其包围所述显示区域并且设置有端子部,所述显示装置包括:薄膜晶体管层;以及发光元件层,其每一个包含第一电极、发光层及第二电极,且形成有发光色彼此不同的多个发光元件,所述第二电极是在所述多个发光元件中共用的电极,且包含金属纳米线,所述边框区域中设置有呈框状的堤,所述堤包围所述显示区域且限定所述第二电极的端部,在所述堤的所述显示区域侧设有导电膜,所述导电膜将所述端子部与所述第二电极电连接,所述导电膜包含与所述金属纳米线接触的接触部,在所述接触部中,在与所述金属纳米线的接触表面处形成有多个凹凸。

另外,本发明所涉及的显示装置的制造方法中,所述显示装置具备:显示区域;边框区域,其包围所述显示区域并且设置有端子部;薄膜晶体管层;以及发光元件层,其每一个包含第一电极、发光层及第二电极,且形成有发光色彼此不同的多个发光元件,所述制造方法包含如下工序:导电膜形成工序,在所述边框区域形成导电膜,所述导电膜将所述端子部与所述第二电极电连接;堤形成工序,在所述边框区域形成堤,所述堤包围所述显示区域且限定所述第二电极的端部;以及第二电极形成工序,通过涂布将金属纳米线分散于溶剂的溶液并去除所述溶剂,来形成所述第二电极,在所述导电膜形成工序中,设置接触部,所述接触部与所述金属纳米线接触,且在与所述金属纳米线的接触表面处形成有多个凹凸,在所述第二电极形成工序中,所述溶液通过与所述凹凸接触,该溶液中所包含的多个所述金属纳米线相互抵接。

发明效果

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社,未经夏普株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980099392.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top