[发明专利]包含对称的被修饰的反向末端重复序列的被修饰的封闭端DNA(CEDNA)

权利要求书

1.一种具有共价封闭端的非病毒无衣壳DNA载体(ceDNA载体)，其中所述ceDNA载体包含可操作地定位于两个侧接对称反向末端重复序列(对称ITR)之间的至少一个异源核苷酸序列，其中所述对称ITR不是野生型ITR，并且每个侧接ITR具有相同的对称修饰。

2.根据权利要求1所述的ceDNA载体，其中所述对称ITR序列为合成的。

3.根据前述权利要求中任一项所述的ceDNA载体，其中所述ITR选自表4中列出的ITR中的任一个。

4.根据前述权利要求中任一项所述的ceDNA载体，其中所述对称ITR中的每一个由选自A、A'、B、B'、C、C'、D和D'的ITR区中的至少一个中的缺失、插入和/或取代来修饰。

5.根据权利要求4所述的ceDNA载体，其中所述缺失、插入和/或取代引起通常由所述A、A'、B、B'、C或C'区所形成的茎-环结构的全部或一部分发生所述缺失。

6.根据权利要求4或权利要求5所述的ceDNA载体，其中对称ITR由引起通常由所述B和B'区所形成的茎-环结构的全部或一部分发生所述缺失的缺失、插入和/或取代来修饰。

7.根据权利要求4至6中任一项所述的ceDNA载体，其中对称ITR由引起通常由所述C和C'区所形成的茎-环结构的全部或一部分发生所述缺失的缺失、插入和/或取代来修饰。

8.根据权利要求6或权利要求7所述的ceDNA载体，其中对称ITR由引起通常由所述B和B'区所形成的茎-环结构的一部分和/或通常由所述C和C'区所形成的茎-环结构的一部分发生所述缺失的缺失、插入和/或取代来修饰。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的ceDNA载体，其中对称ITR在通常包含由所述B和B'区所形成的第一茎-环结构以及由所述C和C'区所形成的第二茎-环结构的区域中包含单个茎-环结构。

10.根据权利要求9所述的ceDNA载体，其中对称ITR在通常包含由所述B和B'区所形成的第一茎-环结构以及由所述C和C'区所形成的第二茎-环结构的所述区域中包含单个茎和两个环。

11.根据权利要求9或权利要求10所述的ceDNA载体，其中对称ITR在通常包含由所述B和B'区所形成的第一茎-环结构以及由所述C和C'区所形成的第二茎-环结构的所述区域中包含单个茎和单个环。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的ceDNA载体，其中所述对称ITR为包含选自以下的核苷酸序列的被修饰的AAV2 ITR：本文中的图7A-22B或表4中的ITR，以及与表4中所列或图7A-22B中所示的所述ITR具有至少95％序列一致性的ITR。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的ceDNA载体，其中所述异源核苷酸序列的全部或一部分处于至少一个调控开关的控制下。

14.一种具有共价封闭端的非病毒无衣壳DNA载体(ceDNA载体)，其中所述ceDNA载体包含可操作地定位于两个侧接野生型反向末端重复序列(WT-ITR)之间的至少一个异源核苷酸序列，其中所述异源核苷酸序列的全部或一部分处于至少一个调控开关的控制下。

15.根据权利要求14所述的ceDNA载体，其中所述WT-ITR序列为对称的WT-ITR序列或大体上对称的WT-ITR序列。

16.根据权利要求14或权利要求15所述的ceDNA载体，其中所述WT-ITR序列选自表1中所示的WT-ITR的组合中的任一个。