[发明专利]水平传感器和包括水平传感器的光刻设备在审
| 申请号: | 201980063865.3 | 申请日: | 2019-08-26 |
| 公开(公告)号: | CN112771451A | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
| 发明(设计)人: | R·H·M·J·布洛克斯;J·G·C·昆尼;O·扎尔;J·H·里昂;S·斯里瓦斯塔瓦 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G01B13/12;G03F7/20;G01B13/06 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 水平 传感器 包括 光刻 设备 | ||
1.一种水平传感器系统,包括:
气动传感器,所述气动传感器包括参考出口和测量出口,所述参考出口被布置成与参考表面形成参考间隙,所述测量出口被布置成与测量表面形成测量间隙,其中所述气动传感器被配置成产生指示从所述参考出口流出的气体流量与从所述测量出口流出的气体流量之间的差的气动传感器测量结果;
温度传感器,所述温度传感器被配置成产生指示(i)所述参考表面的温度、指示(ii)所述测量表面的温度、或指示(iii)所述参考表面的温度(i)与所述测量表面的温度(ii)两者的温度测量结果;以及
控制器,所述控制器被配置成基于所述温度测量结果来调整所述气动传感器测量结果,以产生指示所述参考间隙与所述测量间隙之间的高度差的信号。
2.根据权利要求1所述的水平传感器系统,其中所述温度传感器设置在所述测量间隙或参考间隙的气动传感器侧,和/或被配置成测量小于10mK的温度变化,和/或所述温度传感器包括非接触式温度传感器和/或红外温度传感器。
3.根据权利要求1或2所述的水平传感器系统,
其中,所述参考出口和所述参考表面相对于彼此处于固定位置,
其中所述测量出口和所述测量表面相对于彼此是能移动的,并且
其中所述温度传感器被配置成产生指示所述参考表面的温度的温度测量结果。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的水平传感器系统,其中,所述温度传感器包括第一温度传感器和第二温度传感器,所述第一温度传感器被配置成产生指示所述参考表面的温度的温度测量结果,并且所述第二温度传感器被配置成产生指示所述测量表面的温度的测量结果,并且
其中所述控制器被配置成基于所述第一温度传感器和所述第二温度传感器的温度测量结果来调整所述气动传感器测量结果,以产生指示所述参考间隙与所述测量间隙之间的高度差的信号。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的水平传感器系统,其中,所述控制器被配置成针对从所述参考出口排出的气体的粘度与从所述测量出口排出的气体的粘度之间的差来调整所述气动传感器测量结果,其中,所述温度测量的结果指示从所述参考出口排出的气体的粘度与从所述测量出口排出的气体的粘度之间的差。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的水平传感器系统,其中,所述控制器被配置成使用温度测量结果的查找表和/或基于所述温度测量结果的计算来调整所述气动传感器测量结果。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的水平传感器系统,其中,所述气动传感器还包括:
被配置成接收压缩气体的入口,
第一通路和第二通路,所述第一通路被配置成提供从所述入口到所述参考出口的气流,所述第二通路被配置成提供从所述入口到所述测量出口的气流,以及
质量流量传感器,所述质量流量传感器被配置成测量所述第一通路与所述第二通路之间的质量流量差,其中所述质量流量传感器被配置成产生所述气动传感器测量结果。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的水平传感器系统,其中,所述第一通路和所述第二通路被配置成从所述入口接收基本上相等的气体部分。
9.一种光刻设备,包括根据权利要求1至8中任一项所述的水平传感器系统。
10.根据权利要求9所述的光刻设备,还包括衬底台,
其中,所述气动传感器被配置成在所述气动传感器的所述测量出口与所述衬底之间形成所述测量间隙,并且
其中所述气动传感器被配置成在所述衬底台与所述气动传感器的所述参考出口之间形成所述参考间隙。
11.根据权利要求9或10所述的光刻设备,其中,所述温度传感器被配置成测量所述参考表面的温度并且被安装在除所述衬底台以外的物体上,或者所述温度传感器被安装在所述衬底台上。
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