[发明专利]纯水制造系统及纯水制造方法

说明书

本发明提供能够长时间稳定地制造高水质的纯水的纯水制造系统及纯水制造方法。本发明的纯水制造系统的特征在于，其是具备反渗透膜装置、紫外线氧化装置、电去离子装置及将这些装置依次连接的处理水管的纯水制造系统，其中，上述电去离子装置具备：交替地配置的阳离子交换膜及阴离子交换膜；交替地形成于上述阳离子交换膜及阴离子交换膜之间的浓缩室及脱盐室；以及配置于上述阳离子交换膜及阴离子交换膜的外侧的一对电极室，上述处理水管按照将上述紫外线氧化装置的处理水供给至上述电去离子装置的至少脱盐室的方式与上述电去离子装置连接，并且上述纯水制造系统具备将上述反渗透膜装置的透过水不经由上述紫外线氧化装置地供给至上述电去离子装置的电极室的第1旁通管。

技术领域

本发明涉及纯水制造系统及纯水制造方法。

背景技术

以往，在应用于半导体或液晶显示器的制造工序中使用的洗涤用水或医药用水等的纯水的制造中，使用了电去离子装置(EDI)。电去离子装置一边将装置内的离子交换体以电再生，一边进行原水的去离子处理。因此，在电去离子装置中，不需要如离子交换树脂塔那样利用药剂进行再生，可以连续采水。

电去离子装置是在仅使阳离子(Cation)透过的阳离子交换膜与仅使阴离子(Anion)透过的阴离子交换膜之间填充离子交换体而构成脱盐室、在阳离子交换膜及阴离子交换膜的外侧配置有浓缩室的构成。而且，从脱盐室观察，在阴离子交换膜侧隔着电极室(阳极室)而配置阳极，在阳离子交换膜侧隔着电极室(阴极室)而配置阴极。若在阳极与阴极之间施加直流电压的状态下使脱盐室中通水被处理水，则被处理水中的离子成分被脱盐室内的离子交换体捕捉，并且利用通过水的解离反应而生成的氢离子(H⁺)和氢氧化物离子(OH^-)来进行离子交换体的再生。

像这样操作，在电去离子装置中被处理水通过经过脱盐室而被去离子且被纯化。另一方面，在浓缩室及电极室中也通水例如被处理水。在浓缩室及电极室中通水的被处理水中从脱盐室移动的离子成分被浓缩，变成浓缩水而被排出到电去离子装置之外。

作为使用了该电去离子装置的纯水制造系统，有以下系统：通过反渗透膜装置(RO)得到去离子水，通过紫外线氧化装置(TOC-UV)将该去离子水中的有机物成分分解后，将紫外线氧化装置中产生的低分子量的有机酸等离子成分通过电去离子装置进行处理。作为设置有这样的电去离子装置的系统，还提出了：以二段设置电去离子装置、使脱盐室处理水的一部分在浓缩室中通水的系统(例如参照专利文献1)；出于防止因紫外线氧化装置中产生的氧化成分而引起的离子交换体的劣化的目的，在紫外线氧化装置与电去离子装置之间设置与紫外线氧化装置相比照射长波长的紫外线的紫外线杀菌装置的系统(例如参照专利文献2)。

近年来，伴随着大规模集成电路(LSI)的超高集成化，半导体制造用的超纯水的进一步高水质化的愿望增强。特别是要求将水中的二氧化硅或硼等微量杂质显著低浓度化后的超纯水。然而，若想要提高微量杂质的除去率，则就以往的以二段设置电去离子装置的方法而言，存在电去离子装置中的水回收率、电流效率降低的问题。就以二段设置紫外线灯的装置而言，由于所使用的装置的数目增加，存在系统复杂化或者成本增大的问题。因此，要求能够长时间高效地制造高水质的纯水的方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2006-51423号公报

专利文献2：日本特开2011-45824号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明是为了解决上述的课题而进行的，目的是提供能够长时间稳定地制造高水质的纯水的纯水制造系统及纯水制造方法。

用于解决课题的手段