[发明专利]流体处理装置及流体处理系统在审

专利信息
申请号: 201980044995.2 申请日: 2019-06-17
公开(公告)号: CN112368071A 公开(公告)日: 2021-02-12
发明(设计)人: 砂永伸也 申请(专利权)人: 恩普乐股份有限公司
主分类号: B01J19/00 分类号: B01J19/00;F16K7/16;G01N37/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨文娟;臧建明
地址: 日本埼玉*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 流体 处理 装置 系统
【权利要求书】:

1.一种流体处理装置,用于对流路片内的流体进行控制,所述流路片具有第一流路、第二流路以及配置于所述第一流路与所述第二流路之间的阀,所述流体处理装置的特征在于,具有:

第一旋转部件,具有用于按压所述阀的隔膜而使所述阀关闭的第一凸部,能够以旋转轴为中心旋转;

第二旋转部件,以包围所述第一旋转部件的方式配置,具有用于按压所述阀的隔膜而使所述阀关闭的第二凸部,能够以所述旋转轴为中心而独立于所述第一旋转部件地旋转;以及

多个滚动体,配置于所述第一旋转部件与所述第二旋转部件之间,与所述第一旋转部件和所述第二旋转部件接触。

2.如权利要求1所述的流体处理装置,其中,

在所述第一旋转部件的所述第二旋转部件侧的面或所述第二旋转部件的所述第一旋转部件侧的面上形成有用于收纳所述多个滚动体的凹部。

3.如权利要求1或2所述的流体处理装置,其中,

所述滚动体是轴承滚珠。

4.如权利要求1~3中任意一项所述的流体处理装置,其中,

所述第一凸部与所述第二凸部之间的间隔在5~150μm的范围内。

5.一种流体处理系统,其特征在于,具有:

流路片,所述流路片具有第一流路、第二流路以及配置于所述第一流路与所述第二流路之间的阀;以及

权利要求1~4中任意一项所述的流体处理装置。

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