[发明专利]聚酰亚胺、层积体和包含它们的电子器件在审
| 申请号: | 201980040361.X | 申请日: | 2019-04-19 |
| 公开(公告)号: | CN112313264A | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
| 发明(设计)人: | 三浦则男;成田一贵 | 申请(专利权)人: | 宇部兴产株式会社 |
| 主分类号: | C08G73/10 | 分类号: | C08G73/10;G02F1/1333;H01L21/312;H01L51/50;H05B33/02 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 崔立宇;褚瑶杨 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 聚酰亚胺 层积 包含 它们 电子器件 | ||
1.一种柔性电子器件用聚酰亚胺膜,其由在对以0.75μm的膜厚在电阻值为4Ωcm的硅晶片上形成有聚酰亚胺膜的层积体进行电容-电压测定时显示出0.005/V以上的最大梯度的聚酰亚胺形成,
其中,所述最大梯度含义如下:使施加到所述聚酰亚胺膜的直流电压在最低电压V1与最高电压V2之间,对于所述硅晶片一边进行最低电压V1至最高电压V2的正向扫描和最高电压V2至最低电压V1的负向扫描一边进行电容测定,第3次正向扫描时的标准化电容-电压曲线中的梯度的绝对值的最大值即为最大梯度,此处,所述最低电压V1是仅观察到所述聚酰亚胺膜的电容的电压,所述标准化电容-电压曲线将最低电压V1下的电容设为1而进行了标准化。
2.如权利要求1所述的柔性电子器件用聚酰亚胺膜,其特征在于,聚酰亚胺的重复单元中的酰亚胺基-CONCO-的重量分数小于38.3重量%。
3.如权利要求1或2所述的柔性电子器件用聚酰亚胺膜,其特征在于,由投料比算出的聚酰亚胺整体中的胺末端基团浓度为29μmol/g以下。
4.一种聚酰亚胺前体,其包含使四羧酸成分(A)和二胺成分(B)反应而得到的重复单元,
所述四羧酸成分(A)至少含有3,3’,4,4’-联苯四羧酸二酐,
所述二胺成分(B)含有:
(B-1)选自1,4-二氨基苯、[1,1’:4’,1”-三联苯]-4,4”-二胺和1,4-双[2-(4-氨基苯基)-2-丙基]苯中的至少一种二胺;和
(B-2)选自9,9-双(4-氨基苯基)芴、4,4’-(((9H-芴-9,9-二基)双([1,1’-联苯]-5,2-二基))双(氧基))二胺和4,4’-([1,1’-联萘]-2,2’-二基双(氧基))二胺中的至少一种二胺,
其中,在二胺成分(B)含有1,4-二氨基苯和9,9-双(4-氨基苯基)芴)时,(B-1)的二胺和(B-2)的二胺以外的二胺化合物的量为20摩尔%以下。
5.如权利要求4所述的聚酰亚胺前体,其中,所述二胺成分(B)以总计40摩尔%以上的比例包含所述(B-1)的二胺和(B-2)的二胺。
6.如权利要求4所述的聚酰亚胺前体,其特征在于,来自3,3’,4,4’-联苯四羧酸二酐和所述(B-1)的二胺的重复单元以及来自3,3’,4,4’-联苯四羧酸二酐和所述(B-2)的二胺的重复单元的比例的合计为40摩尔%以上。
7.一种聚酰亚胺,其是将权利要求4~6中任一项所述的聚酰亚胺前体进行酰亚胺化而得到的。
8.一种聚酰亚胺膜,其为权利要求7所述的聚酰亚胺的膜形态。
9.一种柔性电子器件,其包含权利要求1~3中任一项所述的聚酰亚胺膜。
10.如权利要求9所述的柔性电子器件,其中,所述聚酰亚胺膜为权利要求8所述的聚酰亚胺膜。
11.一种制造方法,其为权利要求9或10所述的柔性电子器件的制造方法,其特征在于,
具有下述工序:将聚酰亚胺前体溶液或聚酰亚胺前体溶液组合物涂布到载体基板上,进行酰亚胺化,形成具有所述载体基板和聚酰亚胺膜的层积体。
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