[发明专利]多光谱分析系统的校准

说明书

用于校准多光谱分析系统(1000)的方法包括校准该系统以使用校准样品检测来自包括第一荧光实体和第二荧光实体的生物样品(900)中的第一荧光实体的荧光发射，其中校准样品的特征在于第一浓度的第一荧光实体和第二浓度的第二荧光实体，并且其中第一浓度大于第二浓度。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2018年6月8日提交的美国临时专利申请号62/682,819的优先权，其全部内容通过引用合并于此。

背景技术

多光谱分析系统可用于各种测定中，以确定有关生物样品中荧光团和生色团结合以及表达的信息。通常，在样品中有多个光谱贡献者发出或吸收辐射的情况下，来自每个光谱贡献者的贡献被分开以单独评估属性，例如每个贡献者的空间位置和浓度。这样的评估可以提供有关样品的重要信息，包括疾病状态、免疫反应、蛋白质表达和药物治疗的功效。

通常在进行样品评估之前先对多光谱分析系统进行校准。校准通常涉及采取各种步骤来确保此类系统可以解决来自不同光谱贡献者的单独贡献。

发明内容

本文公开的方法和设备在单个校准板孔中使用校准染料的混合物来校准多光谱成像系统。特别地，使用校准染料的混合物来减少或消除相对紧密间隔的光谱通道之间的串扰。串扰通过使来自一个光谱贡献者的贡献污染或掩盖来自另一光谱贡献者的贡献，从而损害了来自各种测定中准确定量信息的恢复能力。

在本文公开的方法和设备中，通过用校准染料的混合物进行校准，可以减少或消除干扰光谱贡献者对测量的感兴趣光谱贡献者的发射或吸收的“背景”贡献。结果，减少了光谱串扰并且增强了光谱复用。换句话说，通过使用特定校准波长或波段的校准染料的混合物，可以增加样品中可以分析的不同荧光团的数量，并且具有至少部分地重叠的发射光谱的荧光团的贡献可以被区分并以准确和精确的方式进行定量分析。

通常，在第一方面，本公开的特征在于用于校准多光谱分析系统的方法，该方法包括校准该系统以使用校准样品来检测来自包括第一荧光实体和第二荧光实体的生物样品中的第一荧光实体的荧光发射，其中校准样品的特征在于第一荧光实体的第一浓度和第二荧光实体的第二浓度，以及其中第一浓度大于第二浓度。

该方法的实施例可以包括以下特征中的任何一个或多个。

第一荧光实体可以是Cy5，第二荧光实体可以是Cy5.5。校准样品可以是包括多个样品孔的校准板。

第一荧光实体的荧光发射光谱可以与第二荧光实体的荧光发射光谱至少部分地重叠。第一和第二荧光实体可以分别与多光谱分析系统中的光谱发射通道相关联，并且可以通过多光谱分析系统在与第二荧光实体相关联的光谱发射通道中检测来自第一荧光实体的荧光发射。

第一和第二荧光实体可以各自是荧光染料。第一荧光实体可以是内源性荧光部分，第二荧光实体可以是荧光染料。相对于校准样品中的第一荧光实体和第二荧光实体的总量，校准样品中的第二荧光实体的分数可以在0.02和0.08之间(例如，在0.03和0.07之间，在0.04和0.06之间)。

该方法可以包括使用校准的多光谱分析系统来识别生物样品中的一个或多个基因靶。

该方法的实施例还可以包括本文公开的任何其他特征，包括结合不同实施例公开的单个特征的任何组合，除非另有明确说明。

在另一方面，本公开内容的特征在于校准样品，其包括特征在于多个样品孔的校准板，其中将校准板的尺寸确定为在多光谱分析系统中接收，以及位于一个或多个孔中的校准组合物，该组合物包括第一荧光实体和第二荧光实体，其中第一荧光实体的荧光发射光谱与第二荧光实体的荧光发射光谱至少部分地重叠。

校准样品的实施例可包括以下特征中的任何一个或多个。