[发明专利]用于在玻璃制造工艺中控制含氧气氛的设备和方法

权利要求书

1.一种降低玻璃制造设备中的氧浓度的方法，所述方法包含：

使熔融玻璃流过含铂容器，所述含铂容器定位于外壳内，所述外壳含有包含氧的气氛，所述包含氧的气氛在所述外壳与所述含铂容器之间流动；

通过反应腔室上游的管道和所述反应腔室下游的管道导向所述气氛穿过与所述外壳形成流体连通的所述反应腔室，其中所述外壳、所述反应腔室上游的管道、所述反应腔室和所述反应腔室下游的管道包含循环路径；

将氢气注入所述反应腔室上游的所述循环路径中；以及

使所述氢气与所述氧在所述反应腔室中反应。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述反应包含加热所述反应腔室中的所述气氛和所述氢气。

3.如权利要求2所述的方法，其中所述加热包含加热元件。

4.如权利要求3所述的方法，其中所述加热元件在所述加热期间的温度为至少500℃。

5.如权利要求3所述的方法，其中所述加热元件包含铂。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述反应包含使所述氢气和所述氧暴露于所述反应腔室中的含铂催化剂。

7.如权利要求1所述的方法，其中所述注入进一步包含与所述氢气一起注入惰性气体。

8.如权利要求1所述的方法，进一步包含：将额外氧注入所述反应腔室中。

9.一种降低玻璃制造设备中的氧浓度的方法，所述方法包含：

使熔融玻璃流过含铂容器，所述含铂容器定位于外壳内；

使包含氧的气氛在所述外壳与所述含铂容器之间流动；

导向所述气氛穿过与所述外壳形成流体连通的反应腔室；

将包含氢气的反应气体注入所述气氛中；以及

使所述氢气与所述氧在所述反应腔室中反应。

10.如权利要求9所述的方法，其中所述反应气体中的氢气的浓度相对于所述反应气体的总体积在自1%至100%体积比的范围内。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述反应气体包含惰性气体。

12.如权利要求9所述的方法，其中所述气氛沿着循环路径在所述外壳与所述反应腔室之间流动，且所述反应气体经注入所述反应腔室上游的所述循环路径中。

13.如权利要求12所述的方法，进一步包含感测所述反应腔室上游的所述循环路径中的氧浓度。

14.如权利要求13所述的方法，其中所述反应腔室上游的所述循环路径中的所述氧浓度等于或大于0.5%体积比。

15.如权利要求12所述的方法，进一步包含感测所述反应腔室下游的所述循环路径中的氧浓度。

16.如权利要求15所述的方法，其中所述反应腔室下游的所述循环路径中的所述氧浓度小于0.2%体积比。

17.如权利要求15所述的方法，进一步包含：在所述反应期间将额外氧注入所述反应腔室中。

18.如权利要求9所述的方法，其中所述外壳中的所述气氛的压力小于38 Pa。

19.如权利要求9所述的方法，进一步包含加热所述反应腔室中的所述气氛。

20.如权利要求19所述的方法，其中所述加热包含以加热元件加热所述气氛。