[发明专利]定影构件、定影装置和电子照相图像形成设备

权利要求书

1.一种电子照相用定影构件，其包括：

基层；和直接地或者经由底漆层设置在所述基层的外表面上的表面层，所述底漆层介于所述基层与所述表面层之间，

其特征在于，所述表面层由单一的层构成，

所述表面层包含氟树脂和具有全氟聚醚结构的氟油，并且

所述定影构件满足要求(i)和要求(ii)：

(i)对于取自所述定影构件并且包括所述表面层的整个厚度部分的测量样品，当进行包括清洁作为面向所述基层的一侧的相对侧的第一表面的预定位置和将石英晶体微量天平QCM传感器的检测面在0.4MPa的压力和180℃的温度下压在所述位置上50毫秒的处理时，附着在所述检测面的1cm²单位面积中的、包含所述具有全氟聚醚结构的氟油的附着物的质量P11为1.0×10²ng以上且1.0×10⁴ng以下；和

(ii)对于进行了所述要求(i)中规定的处理的所述测量样品，当进行包括在清洁所述位置之后将所述测量样品置于温度为180℃的环境中120sec、然后将所述石英晶体微量天平QCM传感器的检测面在0.4MPa的压力和180℃的温度下压在所述位置上50毫秒的处理时，附着在所述检测面的1cm²单位面积中的、包含所述具有全氟聚醚结构的氟油的附着物的质量P12为0.5×P11以上且1.2×P11以下。

2.一种电子照相用定影构件，其包括：

基层；和直接地或者经由底漆层设置在所述基层的外表面上的表面层，所述底漆层介于所述基层与所述表面层之间，

其特征在于，所述表面层由单一的层构成，

所述表面层包含氟树脂和具有全氟聚醚结构的氟油，

对于取自所述定影构件并且包括所述表面层的整个厚度部分的测量样品，当将石英晶体微量天平QCM传感器的检测面在0.4MPa的压力和180℃的温度下压在作为面向所述基层的一侧的相对侧的第一表面上50毫秒，将附着在所述检测面的1cm²单位面积中的、包含所述具有全氟聚醚结构的氟油的附着物的质量规定为P11时，并且

当将所述石英晶体微量天平QCM传感器的所述检测面在0.4MPa的压力和180℃的温度下压在作为面向所述测量样品的所述基层的一侧的第二表面上50毫秒，将附着在所述检测面的1cm²单位面积中的、包含所述具有全氟聚醚结构的氟油的附着物的质量规定为P21时，

P21P11

其中P11和P21的单位为ng。

3.根据权利要求1或2所述的定影构件，其中所述表面层中的所述具有全氟聚醚结构的氟油的含量为所述表面层的1.0质量％以上且25质量％以下。

4.根据权利要求1或2所述的定影构件，其中P11为1.0×10²ng以上且5.0×10³ng以下。

5.根据权利要求1或2所述的定影构件，其中所述氟树脂为四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物PFA。

6.根据权利要求1或2所述的定影构件，其中所述表面层的厚度为5.0μm以上且50μm以下。

7.根据权利要求1或2所述的定影构件，其中所述氟油为全氟聚醚。

8.根据权利要求7所述的定影构件，其中所述全氟聚醚具有由结构式(1)表示的化学结构：

在结构式(1)中，a、b、c、d、e和f各自独立地为0或正整数，1≤a+b+c+d+e+f≤600，并且a、b、c或d中的至少一者为正整数。

9.根据权利要求7所述的定影构件，其中所述全氟聚醚具有选自结构式(2)至(4)中的至少一种化学结构：

在结构式(2)至(4)中，m和n各自独立地表示1以上的整数。