[发明专利]多环化合物及包含其的有机发光器件有效
申请号: | 201980020718.8 | 申请日: | 2019-07-05 |
公开(公告)号: | CN111936479B | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 李成宰;河宰承;文贤真;洪性佶 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | C07D307/91 | 分类号: | C07D307/91;C07D405/12;C07D409/12;C09K11/06;H10K50/15;H10K50/18;H10K50/17;H10K85/60 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 赵丹;冷永华 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 环化 包含 有机 发光 器件 | ||
1.一种由下述化学式1表示的化合物:
化学式1
在所述化学式1中,
L、L1和L2彼此相同或不同,各自独立地为直接键合、或者取代或未取代的亚芳基,
Ar1和Ar2彼此相同或不同,各自独立地为氢、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的芳基、或者取代或未取代的杂环基,
X为O、S或NR,
R和R6彼此相同或不同,各自独立地为氢、氘、卤素基团、氰基、取代或未取代的甲硅烷基、取代或未取代的硼基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的芳基、或者取代或未取代的杂环基,
m1为0至7的整数,m1为2以上时,R6彼此相同或不同,
R2和R3彼此相同或不同,各自独立地为氢、氘、卤素基团、氰基、取代或未取代的甲硅烷基、取代或未取代的硼基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的芳基、或者取代或未取代的杂环基,
R4和R5彼此相同或不同,各自独立地为氢、氘、卤素基团、氰基、取代或未取代的甲硅烷基、取代或未取代的硼基、取代或未取代烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的芳基、或者取代或未取的杂环基,或者彼此结合而形成取代或未取代的环,
n1为0至2的整数,n1为2时,R2彼此相同或不同,
n2为0至4的整数,n2为2以上时,R3彼此相同或不同。
2.根据权利要求1所述的化合物,其中,所述L为直接键合、取代或未取代的亚苯基、取代或未取代的亚联苯基、或者取代或未取代的亚萘基。
3.根据权利要求1所述的化合物,其中,所述R4和R5彼此相同或不同,各自独立地为取代或未取代的碳原子数1至40的烷基、或者取代或未取代的碳原子数6至60的芳基,或者彼此结合而形成取代或未取代的碳原子数6至60的环。
4.根据权利要求1所述的化合物,其中,所述化学式1由下述化合物中的任一个表示:
5.一种有机发光器件,其中,包括:第一电极、与所述第一电极对置而具备的第二电极、以及具备在所述第一电极与所述第二电极之间的1层以上的有机物层,所述有机物层中的1层以上包含权利要求1至4中任一项所述的化合物。
6.根据权利要求5所述的有机发光器件,其中,所述有机物层包括空穴注入层或空穴传输层,所述空穴注入层或所述空穴传输层包含所述化合物。
7.根据权利要求5所述的有机发光器件,其中,所述有机物层包括电子抑制层,所述电子抑制层包含所述化合物。
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