[发明专利]光纤和光纤光栅

说明书

根据本发明的实施例的光纤设置有：芯部，其具有单峰渐变型折射率分布；内包层，其包围芯部；以及外包层，其包围内包层。内包层和外包层的折射率低于芯部的最大折射率。由芯部和内包层构成的光敏区域包含光敏材料。内包层的外径为1310nm波段中的LP₀₁模式的MFD的一倍以上且两倍以下。

技术领域

本发明一种涉及光纤和光纤光栅。

本申请基于并要求2018年3月16日提交的日本专利申请No.2018-049018的优先权，该日本专利申请的全部内容以引用的方式并入本文。

背景技术

当用紫外光照射掺杂有光敏材料的石英系玻璃时，照射区域的折射率增加。利用这种现象，制造光纤光栅(TFG：终端光纤光栅)。具体地，由石英系玻璃构成的光纤设置有折射率调制区域，在该折射率调制区域中，折射率沿着光纤的纵向周期性地变化。光纤光栅例如被用作监测无源光网络(PON)的滤波器。

作为在PON系统中实现更高容量传输的实例，PON监测滤波器选择性地反射1650nm波段±5nm的光以进行监测。另一方面，PON监测滤波器不仅透射不同于上述波段的波段(例如从1530nm到1565nm的C波段)中的信号光，而且透射其它波段(例如从1565nm到1625nm的L波段)中的信号光，从而能够在更宽的波段中进行高容量传输。

注意，专利文献1至3中例如披露了用于制造光纤光栅的方法。

引文列表

专利文献

专利文献1：日本专利申请公开No.2003-004926

专利文献2：日本专利申请公开No.H11-119041

专利文献3：日本专利申请公开No.H11-326672

专利文献4：日本专利申请公开No.2001-183535

非专利文献

非专利文献1：Williams等人，“ENHANCED UV PHOTOSENSITIVITY IN BORONCODOPED GERMANOSILICATE FIBERS”,ELECTRONICS LETTERS,7th January,1993,Vol.29,No.1,pp45-47

非专利文献2：Junji Nishii等人，“Ultraviolet-radiation-induced chemicalreactions through one-and two-photon absorption process in GeO2-SiO2glasses”,OPTICS LETTERS,Vol.20,No.10,May 15,1995,pp1184-1186

非专利文献3：“Effect of Diffracted Light on Grating Characteristics inPhase Mask Method”,2000,Engineering Sciences Society Conference of IEICE,C-3-26,P151

发明内容

根据本公开的光纤由石英系玻璃构成，并且包括芯部、包围芯部的内包层以及包围内包层的外包层。芯部具有单峰渐变型折射率分布。内包层的折射率低于芯部的最大折射率。外包层的折射率低于芯部的最大折射率。特别地，由芯部和内包层构成的光敏区域包含光敏材料。此外，内包层的外径为1310nm波段中的LP₀₁模式的模场直径(以下称为“MFD”)的一倍以上且两倍以下。

附图说明

图1A是示出光纤光栅的透射损耗的逐渐增加的实例的图。

图1B是图1A的一部分的放大图。