[发明专利]集成电喷雾离子源

权利要求书

1.一种用在质谱系统中的离子源，包括：

壳体，所述壳体提供第一开口和第二开口，其中所述第一开口被配置用于将适应纳流流态中的样本流速的第一离子探针耦合到所述壳体，以及所述第二开口被配置用于将适应纳流范围以上的样本流速的第二离子探针耦合到所述壳体，

所述离子探针中的每一个包括用于将至少由所述探针接收到的样本的成分离子化的排放尖端，

其中所述探针中的每一个包括相对于探针的排放尖端被固定地定位的发射器。

2.如权利要求1所述的离子源，其中所述两个开口被配置为使得所述第一探针和所述第二探针相对于彼此成角度设置。

3.如权利要求2所述的离子源，其中所述角度是大约90度。

4.如权利要求1所述的离子源，其中所述壳体和所述探针被配置为使得所述探针能够可互换地设置在所述壳体中。

5.如权利要求1所述的离子源，还包括设置在所述壳体中的至少一个加热器。

6.如权利要求5所述的离子源，其中所述第一加热器和所述第二加热器相对于所述第一探针和所述第二探针中的至少一个探针的纵向轴线非同轴地设置。

7.如权利要求6所述的离子源，其中所述加热器和所述至少一个探针以非共面的方式布置。

8.如权利要求1所述的离子源，其中所述离子源被配置用于与质谱仪的幕板对接，其中所述幕板包括孔口，由所述第一离子探针和所述第二离子探针中的任一个生成的离子中的至少一部分通过所述孔口进入所述质谱仪的下游部件。

9.如权利要求8所述的离子源，其中所述壳体的所述第一开口和所述第一探针被配置为使得，所述第一探针被定位在所述壳体中以使得所述第一探针的纵向轴线与和所述幕板的孔口相关联的中心轴线基本上同轴。

10.如权利要求9所述的离子源，其中所述壳体的所述第二开口和所述第二探针被配置用于将所述探针定位在所述壳体中以使得所述探针的纵向轴线与所述孔口轴线基本上正交。

11.如权利要求1所述的离子源，其中所述壳体的所述第一开口和所述第二开口被配置用于将所述第一离子探针和所述第二离子探针定位在所述壳体中以使得所述第一离子探针和所述第二离子探针的排放尖端相对于所述幕板的所述孔口不可调整地设置。

12.如权利要求1所述的离子源，其中所述离子源可与所述第一探针或所述第二探针中的任一个一起操作。

13.如权利要求1所述的离子源，其中所述离子源可与所述第一离子探针和所述第二离子探针中的至少一个一起操作。

14.如权利要求1所述的离子源，其中所述第一离子探针和所述第二离子探针中的任一个是电喷雾离子探针。

15.如权利要求14所述的离子源，其中所述电喷雾离子探针包括雾化辅助。

16.如权利要求1所述的离子源，还包括用于确定所述第一开口和所述第二开口中的任一个是否被堵塞的电路系统。

17.如权利要求16所述的离子源，还包括具有电阻元件的至少一个封盖，所述至少一个封盖用于在没有离子探针耦合到至少一个所述开口的情况下堵塞那个开口。

18.如权利要求17所述的离子源，其中所述电路系统被配置为测量所述电阻元件的电阻以用于确定所述开口是否被堵塞。

19.如权利要求1所述的离子源，其中源壳体被密封并且包括用于去除气态副产物的主动抽吸的排气部。