[发明专利]密封装置

权利要求书

1.一种密封装置，用于具有转动轴的设备，对流体流动的空间和收纳相对于流体脆弱的装置的空间进行密封，其特征在于，

所述密封装置具备:

主密封，其配置在所述流体流动的空间侧，具有配备于所述转动轴的转动密封环、配备于所述设备的静止密封环以及在对向方向对所述转动密封环和所述静止密封环进行施力的施力单元，抑制流体从所述流体流动的空间泄漏；以及

辅助密封，其配置在收纳相对于所述流体脆弱的装置的空间侧，在与所述主密封不同的位置与所述转动轴侧的部件滑接，防止流体侵入收纳相对于所述流体脆弱的装置的空间。

2.根据权利要求1所述的密封装置，其特征在于，

所述辅助密封构成为，具有:所述转动密封环；静止密封环，其与所述主密封的静止密封环不同，构成固定于所述设备的辅助密封；以及施力单元，其在对向方向对所述转动密封环和构成所述辅助密封的静止密封环进行施力。

3.根据权利要求2所述的密封装置，其特征在于，

所述主密封的施力单元和所述辅助密封的施力单元分体形成，所述辅助密封的施力单元相比于所述主密封的施力单元，施力较小。

4.根据权利要求2或3所述的密封装置，其特征在于，

在所述辅助密封的所述静止密封环以及所述转动密封环的至少任一个的滑接面上，形成从收纳所述脆弱装置的空间侧向所述流体流动的空间侧对被密封流体赋予方向的泵槽。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的密封装置，其特征在于，

所述密封装置具备具有内壁部和外壁部的环状壳体，在该壳体的所述内壁部与所述外壁部之间，保持构成所述主密封的静止密封环和施力单元以及构成所述辅助密封的静止密封环和施力单元。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的密封装置，其特征在于，

在所述转动密封环上，形成在与所述主密封的所述静止密封环滑接的滑接面和与所述辅助密封的所述静止密封环滑接的滑接面之间沿轴向凹陷的凹部。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的密封装置，其特征在于，

在所述主密封与所述辅助密封之间形成空间，在该空间中形成与所述设备的外部贯通的排泄孔。