[实用新型]一种大视场透射式高能激光发射系统有效

专利信息
申请号: 201922446980.9 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN211603719U 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 张健;张全;康为民 申请(专利权)人: 哈尔滨新光光电科技股份有限公司
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10;G02B27/14;G01V8/14
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地址: 150028 黑*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 一种 视场 透射 高能 激光 发射 系统
【说明书】:

实用新型为了解决现有技术的透射式系统视场小、不利于对目标的探测与搜索、且增加了系统口径的缺陷,而提出一种大视场透射式高能激光发射系统,包括:共口径望远系统、摆镜、合束镜以及接收镜头;激光经过合束镜的透射作用和摆镜的反射作用后,通过共口径望远系统进行发射;可见光经过共口径望远系统后通过摆镜和合束镜的反射作用被接收镜头接收。本实用新型适用于高能激光发射系统的小型化设计。

技术领域

本实用新型涉及高能激光发射系统领域,具体涉及一种大视场透射式高能激光发射系统。

背景技术

随着半导体激光器输出功率不断提高,带动了高能激光发射装备的研制浪潮,该装备具有工作距离远,输出能量高,跟瞄和发射共光路的特点,可以实现跟瞄位置与激光远场汇聚位置一致,系统通过对目标的稳定跟踪实现激光在目标指定位置的持续聚焦。现有高功率激光发射系统分为反射式和折射式两种,反射式系统由于受到轴外像差的影响,扫描视场无法做大;现有透射式系统由于激光扫描会增加系统的通光口径,而高能激光系统不能像传统光学系统一样对光束进行遮挡,受透射镜片加工口径限制,扫描视场也无法做大,现有系统均为小视场系统,瞬时视场和扫描视场均在10′以内,不利于对目标的探测与搜索,且对系统转台的精度要求过高,增加了系统的整体成本,并且在激光扫描过程中高能激光束在系统发射口运动,增加了系统口径,不利于装备的小型化与轻量化。

实用新型内容

本实用新型的一个目的是解决现有技术的透射式系统视场小,不利于对目标的探测与搜索,增加了系统口径的缺陷。

本实用新型提供了一种大视场透射式高能激光发射系统,包括:共口径望远系统、摆镜、合束镜、接收镜头以及折转镜;激光经过合束镜的透射作用和摆镜的反射作用后,通过共口径望远系统进行发射;可见光经过共口径望远系统后通过摆镜和合束镜的反射作用被接收镜头接收。折转镜用于对激光光束进行反射,达到折转光路的作用。共口径望远系统为二次成像设计,其实焦点汇聚于石英结构中。

优选地,出瞳位置位于共口径望远系统的第一光学表面位置。

优选地,入瞳位置位于摆镜处。

优选地,共口径望远系统沿激光发射方向包括负透镜组和正透镜组。

优选地,摆镜通过二维摆动实现出射激光和探测视场的扫描功能。

优选地,合束镜具有镀膜,能够使激光透射经过合束镜,且能够使可见光在合束镜表面发生反射。

优选地,激光的波段为1080±5nm。

优选地,可见光的波段为480nm至650nm。

本实用新型的有益效果是:

1、增大系统扫描视场,减小系统探测与搜索难度,降低系统对转台的精度要求,降低了系统成本,并且系统扫描过程中激光光斑在系统出口位置不发生变化。

2、系统采用激光发射与接收共光路设计,可同时实现对远距离目标的探测及高能激光发射功能,系统探测视场能够达到1.5°,扫描视场能够达到1.5°,远大于现有技术中的10′以内视场。

3、系统通过二次成像实现光瞳耦合,入瞳设计在摆镜位置,出瞳耦合到系统镜组第一片位置,实现摆镜扫描过程中激光光斑在系统出口位置不变,有效增加了系统口径利用率。在一个实施例中,系统口径90mm,出光口径75mm,口径利用率达到83%,减小了系统口径,实现了装备整体的小型化与轻量化。

通过以下参照附图对本实用新型的示例性实施例的详细描述,本实用新型的其它特征及其优点将会变得清楚。

附图说明

被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本实用新型的实施例,并且连同其说明一起用于解释本实用新型的原理。

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