[实用新型]一种双面抛光装置有效
| 申请号： | 201922309282.4 | 申请日： | 2019-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN211220218U | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 赵晟佑 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/08 | 分类号： | B24B37/08;B24B37/015;B24B37/26;B24B37/34 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;胡影 |
| 地址： | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 双面 抛光 装置 | ||
1.一种双面抛光装置，其特征在于，包括：
相对设置的上抛光头和下抛光头；
固定设置于所述上抛光头上的上定盘以及固定设置于所述下抛光头上的下定盘；
贴附于所述上定盘上的上抛光垫以及贴附于所述下定盘上的下抛光垫，所述上抛光垫的直径比所述上定盘的直径小5～15mm，所述下抛光垫的直径比所述下定盘的直径小5～15mm。
2.根据权利要求1所述的双面抛光装置，其特征在于，所述上抛光头和/或所述下抛光头的端部设有气囊，所述气囊的内部间隔分为至少两个气压室，所述至少两个气压室呈同圆心设置，所述至少两个气压室内的气压互不相同。
3.根据权利要求2所述的双面抛光装置，其特征在于，所述至少两个气压室内的气压自所述圆心向边缘方向逐渐减小。
4.根据权利要求2所述的双面抛光装置，其特征在于，每一所述气压室分别通过一气压控制管路与气源供给端连接。
5.根据权利要求2所述的双面抛光装置，其特征在于，所述气压室的数量为两个。
6.根据权利要求1所述的双面抛光装置，其特征在于，所述上抛光垫和/或所述下抛光垫的抛光面开设有若干凹槽，所述上抛光垫和/或所述下抛光垫自中心向边缘方向划分为至少两个抛光区，所述至少两个抛光区内的凹槽的槽宽互不相同。
7.根据权利要求6所述的双面抛光装置，其特征在于，所述至少两个抛光区的数量为两个。
8.根据权利要求7所述的双面抛光装置，其特征在于，所述两个抛光区包括第一抛光区和包围所述第一抛光区的第二抛光区，所述第一抛光区的槽宽小于所述第二抛光区的槽宽。
9.根据权利要求6所述的双面抛光装置，其特征在于，所述若干凹槽呈同圆心设置的圆形。
10.根据权利要求1所述的双面抛光装置，其特征在于，还包括：
若干温度传感器，所述若干温度传感器的探头布设于所述上抛光垫和/或所述下抛光垫上背对抛光面的一侧。
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