[实用新型]一种过共晶铝硅合金连铸过程中的熔体处理装置

权利要求书

1.一种过共晶铝硅合金连铸过程中的熔体处理装置，其特征在于：由熔池组件，及与熔池组件相配合使用的电磁搅拌组件组成；所述熔池组件，包括外壳（1），及设置在外壳（1）内的熔池（2），及设置在熔池（2）内壁的旋转电磁搅拌中空壳体（3），及设置在旋转电磁搅拌中空壳体（3）内的带电线圈（4），及设置在外壳（1）底部的溶液导管（7）；所述电磁搅拌组件，包括与导管（7）连接的过渡熔池（8），及设置在过渡熔池（8）底部的若干个L形溶液输料管（9），及分别设置在若干个L形溶液输料管（9）上的旋转电磁搅拌中空外壳（10），及设置在旋转电磁搅拌中空外壳（10）内的旋转电磁搅拌中空内壳（11），及设置在旋转电磁搅拌中空外壳（10）上的第一水冷进口（13）、第二水冷出口（14），及设置在旋转电磁搅拌中空内壳（11）内的辅助带电线圈（12），及分别设置在若干个L形溶液输料管（9）上且位于旋转电磁搅拌中空外壳（10）下方的行波电磁搅拌中空外壳（15），及设置在行波电磁搅拌中空外壳（15）内的行波电磁搅拌中空内壳（16），及设置在行波电磁搅拌中空外壳（15）上的第三水冷进口（18）、第四水冷出口（19），及对称设置在行波电磁搅拌中空内壳（16）内的若干个回形磁体（17），及分别设置在若干个L形溶液输料管（9）上且位于行波电磁搅拌中空外壳（15）下方的螺旋电磁搅拌中空外壳（20），及设置在螺旋电磁搅拌中空外壳（20）内的螺旋电磁搅拌中空内壳（21），及设置在螺旋电磁搅拌中空外壳（20）上的第五水冷进口（23）、第六水冷出口（24），及对称设置在螺旋电磁搅拌中空内壳（21）内的若干个螺旋磁体（22）。

2.根据权利要求1所述的一种过共晶铝硅合金连铸过程中的熔体处理装置，其特征在于：所述溶液导管（7）的长度尺寸为5cm -8cm。

3.根据权利要求1所述的一种过共晶铝硅合金连铸过程中的熔体处理装置，其特征在于：所述若干个回形磁体（17）设置四个或六个。

4.根据权利要求1所述的一种过共晶铝硅合金连铸过程中的熔体处理装置，其特征在于：所述若干个螺旋磁体（22）设置四个或六个。

5.根据权利要求1所述的一种过共晶铝硅合金连铸过程中的熔体处理装置，其特征在于：所述过共晶铝硅合金连铸过程中的熔体处理装置，还包括设置在熔池（2）内且与熔池（2）内溶液相配合使用的喷粉管（5）、通氩气保护导管（6）。

6.根据权利要求5所述的一种过共晶铝硅合金连铸过程中的熔体处理装置，其特征在于：所述过共晶铝硅合金连铸过程中的熔体处理装置，还包括设置在外壳（1）顶端的定位座（25），及设置在定位座（25）一面的竖外螺纹调节杆（26），及通过一组锁紧螺母（28）固定在竖外螺纹调节杆（26）上的横超声波检测探头安装板（27），及设置在横超声波检测探头安装板（27）一端内的超声波检测探头（29），其中，超声波检测探头（29）与超声波检测仪连接。