[实用新型]一种真空测量计有效

专利信息
申请号: 201922153890.0 申请日: 2019-12-05
公开(公告)号: CN210833993U 公开(公告)日: 2020-06-23
发明(设计)人: 纪宇圣 申请(专利权)人: 上海弗华机电设备有限公司
主分类号: G01L21/00 分类号: G01L21/00;G01L21/12;G01L19/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215500 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 真空 测量计
【权利要求书】:

1.一种真空测量计,其特征在于:包括:规管信号线(1-1)、真空计(1)、KF真空快开三通(2)、测量缓冲腔(3)、真空测量探头保护物质(4)、计算机(7)、规管连接法兰(1-2)、压力传感器(6)、传感器信号线(6-1)、压力传感器连接法兰(6-2)、第二快开法兰(3-3)、第一快开法兰(3-1)和底挡板(3-2);

真空计(1)通过规管连接法兰(1-2)与KF真空快开三通(2)的第一个开口连接,压力传感器(6)通过压力传感器连接法兰(6-2)与KF真空快开三通(2)的第二个开口连接;测量缓冲腔(3)为中空结构且具有两个开口,测量缓冲腔(3)的第一个开口通过第二快开法兰(3-3)与KF真空快开三通(2)的第三个开口连接,底挡板(3-2)与测量缓冲腔(3)的第二个开口连接,测量缓冲腔(3)的第二个开口再通过第一快开法兰(3-1)与被测量系统(5)连接,真空测量探头保护物质(4)位于测量缓冲腔(3)内,规管信号线(1-1)连接在计算机(7)与真空计(1)之间,传感器信号线(6-1)连接在计算机(7)与压力传感器(6)之间。

2.根据权利要求1所述的一种真空测量计,其特征在于:所述的真空测量探头保护物质(4)为硅胶、分子筛和活性炭的一种或几种的任意组合。

3.根据权利要求1所述的一种真空测量计,其特征在于:所述的真空计(1)为波尔登规、薄膜电容规、皮拉尼电阻规、热电偶规、热阴极电离规和冷阴极电离规中的任意一个。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海弗华机电设备有限公司,未经上海弗华机电设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201922153890.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top