[实用新型]一种用于流行病学分析的显微成像系统有效

专利信息
申请号: 201922077101.X 申请日: 2019-11-27
公开(公告)号: CN211236431U 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 刘春芳 申请(专利权)人: 内蒙古科技大学包头医学院
主分类号: G02B21/06 分类号: G02B21/06;G02B21/16
代理公司: 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 代理人: 王欣
地址: 014040 内蒙*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 流行病学 分析 显微 成像 系统
【说明书】:

实用新型公开了一种用于流行病学分析的显微成像系统,包括:显微镜本体,配合所述显微镜本体使用的载玻片和盖玻片,以及光源装置;其中所述盖玻片设置在所述载玻片中靠近所述显微镜本体中物镜的一表面,所述载玻片与所述盖玻片之间设置有样品液,所述光源装置能够通过发射的紫外线照射所述载玻片上的样品液,以对样品液中细菌灭活;所述盖玻片的上表面上还覆盖着防紫外线膜,用于遮挡照射在所述载玻片上的紫外线进入所述显微镜本体的物镜;本实用新型能够在显微观测过程中利用紫外线使其失活。

技术领域

本实用新型涉及流行病学分析实验装置领域,具体涉及一种用于流行病学分析的显微成像系统。

背景技术

流行病指可以感染众多人口的传染病。能在较短的时间内广泛蔓延的传染病,如流行性感冒、脑膜炎、霍乱等。流行病学分析中常用显微镜对病毒、细菌及病原微生物进行观察。

紫外线是指波长在200nm~380nm之间的太阳光线,包括3类:UV-A波长为315nm~380nm,UV-B波长为280nm~315nm,UV-C波长200nm~280nm。到达地球表面的太阳光线(290nm—2000nm)中紫外线约占13%,其中UV-A占97%,UV-B占3%,UV-C接近于0。对人皮肤损伤的只有UV-A、UV-B。通过特殊工艺制成的UV-C紫外线灯,用来进行消毒灭菌。

其中真正具有杀菌作用的是uv-C波紫外线,254nm左右的紫外线最佳。紫外线可以杀灭各种微生物,包括细菌繁殖体、芽胞、分支杆菌、病毒、真菌、立克次体和支原体等,具有广谱性。

其杀菌原理是通过紫外线对细菌、病毒等微生物的照射,以破坏其机体内DNA(去氧核糖核酸)的结构,使其立即死亡或丧失繁殖能力。石英紫外线灯具有优势,那么,如何识别真假。不同波段的紫外线杀菌能力不同,只有短波紫外线(200-300nm)才能对细菌有杀灭能力,其中在250-270nm范围杀菌力最强通常,显微镜无法观察到杀死细菌的过程。

如果能够在显微观察的过程中利用紫外线杀死细菌,观察其失活过程,这将拓展流行病学的研究手段,为进一步控制和预防流行病的传播提供理论依据。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是能够在显微观测过程中利用紫外线使其失活,并提供一种用于流行病学分析的显微成像系统。

为了解决上述技术问题,本实用新型提供了如下的技术方案:

一种用于流行病学分析的显微成像系统,包括:显微镜本体,配合所述显微镜本体使用的载玻片和盖玻片,以及光源装置;其中所述盖玻片设置在所述载玻片中靠近所述显微镜本体中物镜的一表面,所述载玻片与所述盖玻片之间设置有样品液,所述光源装置能够通过发射的紫外线照射所述载玻片上的样品液,以对样品液中细菌灭活;所述盖玻片的上表面上还覆盖着防紫外线膜,用于遮挡照射在所述载玻片上的紫外线进入所述显微镜本体的物镜。

优选地,所述光源装置设置在光线通孔或光源箱中。

优选地,所述光源装置包括若干个UV-LED灯珠、固定块,其中所述UV-LED灯珠固定安装在所述固定块上。

优选地,所述光源箱固定安装在载物台上,并设置在载玻片的侧面,所述光源箱上设置有若干个通孔,用于将光源装置的光线导向,并照射在所述载玻片上。

优选地,所述光线通孔倾斜设置在所述载物台上,并与中心孔连接相通,所述中心孔设置在所述载物台上,并位于所述载玻片的正下方。

优选地,所述光线通孔的倾斜角度范围为15°~45°。

优选地,所述载物台的上表面形状为:圆形或长方形或正方形或菱形。

优选地,所述载物台设置在显微镜本体的物镜的正下方,所述载物台上还设置有信号输入接口,用于连接显微镜本体上的连接端口。

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