[实用新型]一种可自清洁及局部降温的回转窑

说明书

一种可自清洁及局部降温的回转窑，涉及回转窑承托轮装置领域，本实用新型在传统的回转窑的承托轮及托轮带机构上设置了涂上冷却水的沾水部和去除水及杂质的刮水部，并通过支架将其固定于承托轮和托轮带运转相靠近的一侧，实现了对托轮带的局部圆周外表面进行降温以及清洁，一方面降低了污染异物进入到承托轮内部和润滑油中，另一方面降低了托轮带和承托轮接触时的温度，降低了润滑油的温度，减少润滑油的消耗，降低润滑油添加的频率以及生产的成本，且本实用新型具还有结构简单，运行稳定，散热效果好，可自行运作，维护管理强度低等优点。

技术领域

本实用新型涉及回转窑承托轮装置领域，具体为一种可自清洁及局部降温的回转窑。

背景技术

回转窑是指旋转煅烧的窑，广泛应用于水泥、冶金和石灰等产品的加工。回转窑主要包括筒状回转窑筒体，窑筒体其中一端设有窑头罩，窑筒体的另一端设有尾烟室，窑筒体的中间段设置有驱动的大齿圈，和多个承托轮机组。承托轮机组用于助力于窑筒体的旋转，其包括基座，设置于基座上的承托轮，固定在窑筒体外周的托轮带，承托轮支撑并驱使托轮带旋转，进而带动窑筒体旋转。承托轮机组需要用到润滑油，并且回转窑高温段表面温度非常高，轮带的热量将传导到托轮，继而引起润滑油温度过高。过高的润滑油将被快速蒸发到大器中，造成润滑油的浪费，使维护的周期增加，生产的升本增加。此外，窑筒体的使用环境经常十分严苛，

有鉴于此，如果能改进上述问题，将使的回转窑的效率大大提高。

发明内容

本实用新型的目的在于：提供了一种可自清洁及局部降温的回转窑，在减少人力管理的基础上，解决承托轮的温度过高而导致润滑油消耗过快的问题，以及更进一步地解决承托轮和托轮带之间污染物的问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种可自清洁及局部降温的回转窑，包括：窑筒体，套设于所述窑筒体外周的托轮带，承托设置于所述托轮带下方的承托轮，支撑安装所述承托轮的托轮基座，还包括与所述托轮基座固定连接的支架，固定于所述支架的导管部，设置于所述支架上方并连通于所述导管部的沾水部，设置于所述沾水部下方并固定于支架的刮水部，所述支架设置于所述托轮带与承托轮旋转相靠近一侧，所述沾水部及刮水部均与所述托轮带相接触，所述导管部设置有入水口。

上述可自清洁及局部降温的回转窑，作为优选的，所述沾水部包括由多孔材料制成的条状构件，所述条状构件与托轮带相接触。

上述可自清洁及局部降温的回转窑，进一步有，所述沾水部还包括支撑筒，所述条状构件包括刷水轮，所述支撑筒的固定安装于支架顶部，所述支撑筒内具有腔体，所述腔体与导管部相连通，所述支撑筒的表面设置贯通至所述腔体的孔结构，所述刷水轮可转动套装于所述支撑筒的外周。

上述可自清洁及局部降温的回转窑，进一步有，所述条状构件由海绵，或者纺织布，或者无纺布制成。

上述可自清洁及局部降温的回转窑，作为优选的，所述刮水部包括弹性组件、刮水板和集水盘，所述弹性组件固定安装于支架下部，所述刮水板弹性连接于所述弹性组件，所述集水盘固定安装于支架并位于所述刮水板下方，所述刮水板与托选带相接触。

上述可自清洁及局部降温的回转窑，进一步有，所述弹性组件包括螺栓、弹簧和螺母，所述螺栓依次贯穿所述刮水板上的通孔、所述弹簧和所述支架上的通孔，并固定于所述螺母，所述弹性组件为两个以上。

上述可自清洁及局部降温的回转窑，作为优选的，还包括挡水板，所述挡水板固定于所述支架并位于沾水部及刮水部之间，所述挡水板为与所述托轮带间隙配合的圆弧曲面。

上述可自清洁及局部降温的回转窑，进一步有，还包括若干喷淋头，各个所述喷淋头与所述导管部连通。

上述可自清洁及局部降温的回转窑，进一步有，所述喷淋头成纵列布置，且所述喷淋头的开口朝向于所述挡水板的轴线上。