[实用新型]一种晶圆测试盘加热装置有效
申请号: | 201921848427.1 | 申请日: | 2019-10-30 |
公开(公告)号: | CN211375443U | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
发明(设计)人: | 张振峰;杨国良;邱德明 | 申请(专利权)人: | 武汉盛为芯科技有限公司 |
主分类号: | G05D23/20 | 分类号: | G05D23/20;G01R31/26;G01N25/00 |
代理公司: | 武汉红观专利代理事务所(普通合伙) 42247 | 代理人: | 李季 |
地址: | 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 测试 加热 装置 | ||
本实用新型公开了一种晶圆测试盘加热装置,包括TEC温控箱、进液管和出液管,所述TEC温控箱一侧焊接有所述进液管,所述TEC温控箱远离所述进液管一侧焊接有所述出液管,所述TEC温控箱上侧成型有加热片卡槽。有益效果在于:本实用新型通过设置的TEC温控箱、进液管、出液管和加热片卡槽,使得ETC加热片的降温调节通过往TEC温控箱中加入冷却液进行,使得冷却液将ETC加热片的热量带走,进而使得降温速度提高,加快温度调节速度,保证测试精准度。
技术领域
本实用新型涉及晶圆测试设备领域,具体涉及一种晶圆测试盘加热装置。
背景技术
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆;在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能的集成电路产品。晶圆在安装使用之前,需要对晶圆进行一系列测试,其中包括加热测试,需要使用相应地加热装置对晶圆进行加热测试。
现有的晶圆测试盘加热装置在进行温度调控时,通过加热片自主散热的方式进行降温调节,温度调节速度慢,影响测试精准度,因此需要一种实用新型来解决现有的问题。
实用新型内容
(一)要解决的技术问题
为了克服现有技术不足,现提出一种晶圆测试盘加热装置,解决了现有的晶圆测试盘加热装置在进行温度调控时,通过加热片自主散热的方式进行降温调节,温度调节速度慢,影响测试精准度的问题。
(二)技术方案
本实用新型通过如下技术方案实现:本实用新型提出了一种晶圆测试盘加热装置,包括TEC温控箱、进液管和出液管,所述TEC温控箱一侧焊接有所述进液管,所述TEC温控箱远离所述进液管一侧焊接有所述出液管,所述TEC温控箱上侧成型有加热片卡槽,所述加热片卡槽内设置有TEC加热片,所述TEC加热片上侧设置有晶圆放置盘,所述晶圆放置盘外侧设置有温度传感器。
进一步的,所述TEC加热片与所述加热片卡槽插接,所述加热片卡槽有七个。
通过采用上述技术方案,所述TEC加热片可以通过所述加热片卡槽与冷却液进行热量交换,进而完成降温处理。
进一步的,所述TEC加热片有七个,所述TEC加热片与所述晶圆放置盘通过卡槽连接。
通过采用上述技术方案,所述晶圆放置盘可以放置需要加热测试的晶圆体。
进一步的,所述温度传感器有两个,所述温度传感器与所述晶圆放置盘通过卡槽连接。
通过采用上述技术方案,所述温度传感器均匀设置在所述晶圆放置盘两侧,可以对所述晶圆放置盘的温度进行实时测量。
(三)有益效果
本实用新型相对于现有技术,具有以下有益效果:
为解决现有的晶圆测试盘加热装置在进行温度调控时,通过加热片自主散热的方式进行降温调节,温度调节速度慢,影响测试精准度的问题,本实用新型通过设置的TEC温控箱、进液管、出液管和加热片卡槽,使得ETC加热片的降温调节通过往TEC温控箱中加入冷却液进行,使得冷却液将ETC加热片的热量带走,进而使得降温速度提高,加快温度调节速度,保证测试精准度。
附图说明
图1是本实用新型所述一种晶圆测试盘加热装置的主视图;
图2是本实用新型所述一种晶圆测试盘加热装置中晶圆放置盘的俯视图;
图3是本实用新型所述一种晶圆测试盘加热装置中TEC温控箱的主剖视图。
附图标记说明如下:
1、TEC温控箱;2、进液管;3、出液管;4、TEC加热片;5、晶圆放置盘;6、加热片卡槽;7、温度传感器。
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