[实用新型]一种搅拌均匀的新型反应釜

说明书

本实用新型公开了一种搅拌均匀的新型反应釜包括反应釜本体；设置在反应釜本体的顶部上的电机；与电机连接且转动设置在反应釜本体的收容腔内的搅拌轴，搅拌轴上设置有搅拌刀片；多个挡板，沿反应釜本体的收容腔的内壁的竖直方向间隔设置；其中，挡板远离反应釜本体的收容腔的内壁的一侧端与搅拌刀片远离搅拌轴的一端的距离大于0，且挡板的长度略小于反应釜本体的收容腔的深度。通过上述方式，本实用新型通过在反应釜的内壁设置挡板，使得反应釜搅拌运行形成漩涡后，能够在反应釜内的挡板处形成一个反漩涡，从而产生多个漩涡，使得反应釜的搅拌效果好，使得物料搅拌更加均匀。

技术领域

本实用新型涉及反应釜技术领域，具体为一种搅拌均匀的新型反应釜。

背景技术

在化学化工领域中，常需要对物料进行搅拌，一般情况下，都是采用反应釜进行各种形式的搅拌。

一般情况下，反应釜的内壁是光滑的，通过搅拌可以形成一个漩涡使得反应釜内的物料跟着漩涡转到达到搅拌的效果。然而，传统的反应釜的搅拌效果差，使得物料搅拌不均匀，严重影响产品的质量。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种搅拌均匀的新型反应釜，通过在反应釜的内壁设置挡板，使得反应釜搅拌运行形成漩涡后，能够在反应釜内的挡板处形成一个反漩涡，从而产生多个漩涡，使得反应釜的搅拌效果好，使得物料搅拌更加均匀。

(二)技术方案

为解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：本实用新型公开一种搅拌均匀的新型反应釜，包括反应釜本体、设置在所述反应釜本体的顶部上的电机和与所述电机连接且转动设置在所述反应釜本体的收容腔内的搅拌轴，所述搅拌轴上设置有搅拌刀片，其还包括：多个挡板，沿所述反应釜本体的收容腔的内壁的竖直方向间隔设置；其中，所述挡板远离所述反应釜本体的收容腔的内壁的一侧端与所述搅拌刀片远离所述搅拌轴的一端的距离大于0，且所述挡板的长度略小于所述反应釜本体的收容腔的深度。

进一步的，所述挡板由沿所述反应釜本体的收容腔的内壁的竖直方向间隔设置的多个凸板构成。

进一步的，所述挡板设有朝向所述反应釜本体的收容腔的水平方向设置的搅拌杆，其中所述搅拌杆和所述搅拌刀片不处于同一水平面设置。

进一步的，所述多个挡板包括间隔设置的第一挡板、第二挡板、第三挡板和第四挡板。

进一步的，所述第一挡板、所述第二挡板、所述第三挡板和所述第四挡板四者中两两相邻的两者之间的距离不相等。

进一步的，所述第一挡板、所述第二挡板、所述第三挡板和所述第四挡板四者中两两相邻的两者之间的距离相等。

进一步的，所述第一挡板、所述第二挡板、所述第三挡板和所述第四挡板的长度相等，且所述第一挡板和所述第三挡板对称设置，所述第二挡板和所述第四挡板对称设置。

进一步的，所述第一挡板、所述第二挡板、所述第三挡板和所述第四挡板的长度不相等。

(三)有益效果

与现有技术相比，本实用新型提供了一种，具备以下有益效果：本实用新型所公开的搅拌均匀的新型反应釜包括反应釜本体；设置在反应釜本体的顶部上的电机；与电机连接且转动设置在反应釜本体的收容腔内的搅拌轴，搅拌轴上设置有搅拌刀片；多个挡板，沿反应釜本体的收容腔的内壁的竖直方向间隔设置；其中，挡板远离反应釜本体的收容腔的内壁的一侧端与搅拌刀片远离搅拌轴的一端的距离大于0，且挡板的长度略小于反应釜本体的收容腔的深度。通过上述方式，本实用新型通过在反应釜的内壁设置挡板，使得反应釜搅拌运行形成漩涡后，能够在反应釜内的挡板处形成一个反漩涡，从而产生多个漩涡，使得反应釜的搅拌效果好，使得物料搅拌更加均匀。

附图说明