[实用新型]一种四圆柱台式上吸附板有效
申请号: | 201921661250.4 | 申请日: | 2019-10-07 |
公开(公告)号: | CN211539961U | 公开(公告)日: | 2020-09-22 |
发明(设计)人: | 陈刚;袁聪;林少辉;田凯华 | 申请(专利权)人: | 武汉吉事达科技股份有限公司 |
主分类号: | B23K26/70 | 分类号: | B23K26/70;B23K37/04;B23K26/362 |
代理公司: | 江苏殊成律师事务所 32265 | 代理人: | 杨桂平 |
地址: | 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 圆柱 台式 吸附 | ||
本实用新型公开了一种四圆柱台式上吸附板,包括上吸附板基体,吸附凸台、阶梯围栏、平面围栏;上吸附板基体上设有阶梯围栏、平面围栏;中部均匀排列有四组吸附凸台,为圆柱台式的吸附凸台;设有环形沟槽及相互垂直的直线沟槽,交叉口设有吸附小孔;阶梯面一高于阶梯面二,阶梯面二与平面围栏的上表面、四组吸附凸台的吸附平面都位于同一水平面上;空隙自然形成落料凹槽;各设有吸附凸台内腔孔;吸附小孔与吸附凸台内腔孔、吸附内腔大孔相贯通,共同形成吸附腔体系统。本实用新型结构合理:形成较大的二层吸附腔体系统,使得气道更通畅,吸附力保持均衡,圆柱台式的吸附凸台结构,满足支撑吸附及高精度的加工需要;具有综合良好的技术效果。
技术领域
本实用新型涉及一种用于吸附工件用的吸附平台构件,特别是涉及一种加工玻璃制品用的吸附平台构件,组成吸附平台,用于激光刻蚀设备上。
背景技术
目前,激光刻蚀设备现有的加工工件中,常常涉及有玻璃制品类的高精度产品。这类玻璃制品类的被加工件,硬度高强度大,被加工后成型的产品尺寸有一定规格要求,而且加工精度要求特别高;由于材质硬度高,在刻蚀过程中,要确保吸附平台对其吸附安装要牢固;同时刻蚀轨迹的下端常常会遗留有较微小的粉尘残留,要避免污染玻璃成品。针对其特定的加工要求,常规的全平面式的吸附平台无法满足高精度的加工需要,所以需要提供一种特殊结构的吸附平台,满足其在加工过程的吸附安装牢固可靠,又有可保护加工后的工件制品免收粉尘残留的影响。
实用新型内容
发明目的:针对上述现有技术存在的问题和不足,本实用新型的目的是提供一种结构合理、吸附安装牢固的四圆柱台式上吸附板。
技术方案:为实现上述实用新型目的,本实用新型采用的技术方案为:
一种四圆柱台式上吸附板,包括:上吸附板基体,吸附凸台、阶梯围栏、平面围栏;
在所述上吸附板基体上的左侧和后侧,设有阶梯围栏;在所述上吸附板基体上的右侧和前侧设有平面围栏;在所述上吸附板基体上的中部均匀排列有四组吸附凸台,四角处设有安装螺栓孔;安装螺栓从安装螺栓孔将上吸附板固定在相应的下吸附板上;
所述吸附凸台为圆柱台式的吸附凸台,在吸附凸台上设有:环形沟槽二条、直线沟槽二条;直线沟槽相互垂直,与环形沟槽形成交叉,分割成扇形、弧形带及圆环带,共同组合成多形状块的吸附平面;在所述环形沟槽与直线沟槽的交叉口,设有吸附小孔;
所述阶梯围栏包括阶梯面一、阶梯面二,阶梯面一高于阶梯面二,在内侧的阶梯面二与平面围栏的上表面、四组吸附凸台的吸附平面都位于同一水平面上;可以很好的支撑工件,并可以使得工件定位在左侧及后侧的阶梯面一与阶梯面二形成的垂直面上;
所述阶梯围栏、平面围栏与四组吸附凸台之间的空隙自然形成落料凹槽;设置成圆柱台式结构形式的吸附凸台,可以满足圆形玻璃制品的吸附安装需求,刻蚀的轨迹在圆形凸台的四周;同时落料凹槽的面积较大,便于后续除尘装置的除尘,除尘效果会较好;较大的空间可以很好的存放加工后落下的废料,并便于清理;
在所述上吸附板基体下,对应于四组吸附凸台的下部,各设有吸附凸台内腔孔;所述吸附小孔与吸附凸台内腔孔相贯通;吸附内腔大孔的内孔壁包切住四组吸附凸台内腔孔,相互贯通,共同形成吸附腔体系统;吸附腔体系统贯通顺畅,空间较大,可以有效的提升吸附效能。
优化的,二条直线沟槽可以水平或纵向设置在吸附凸台上,或以一条直线沟槽以任意角度设置,另一条直线沟槽与之保持相互垂直。
优化的,所述直线沟槽与环形沟槽深度相一致,为3-5mm。
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