[实用新型]一种分散染料羟化中间体的研磨装置

权利要求书

1.一种分散染料羟化中间体的研磨装置，包括底座(1)、设于所述底座(1)内的研磨座(2)及设于所述底座(1)上方的安装块(3)，所述安装块(3)上设有第一活动槽，所述第一活动槽内设有与所述研磨座(2)相配合的研磨轮(31)，其特征在于：所述第一活动槽内设有活动块(35)，所述活动块(35)可沿所述第一活动槽内壁移动，所述研磨轮(31)设于所述活动块(35)底部，所述底座(1)上设有安装腔，所述研磨座(2)设于所述安装腔内。

2.按照权利要求1所述的一种分散染料羟化中间体的研磨装置，其特征在于：所述安装腔侧壁上设有通槽，所述通槽内穿设有固定板(12)，所述固定板(12)上设有第二活动槽，所述通槽内设有与所述第二活动槽相配合的第一连接块，所述第一连接块穿设于所述第二活动槽内。

3.按照权利要求2所述的一种分散染料羟化中间体的研磨装置，其特征在于：所述底座(1)侧壁上可转动连接有第一限位块(13)，所述固定板(12)一端设有推板(121)，所述第一限位块(13)上设有与所述推板(121)相配合的第一限位槽。

4.按照权利要求1所述的一种分散染料羟化中间体的研磨装置，其特征在于：所述底座(1)上设有第一活动腔，所述安装块(3)上设有第一连接杆(33)，所述第一连接杆(33)底部设有与所述第一活动腔相配合的第一限位板(331)，所述第一限位板(331)底部设有支撑弹簧(332)。

5.按照权利要求1所述的一种分散染料羟化中间体的研磨装置，其特征在于：所述安装块(3)上设有第一连接扳(36)，所述第一连接扳(36)上设有第三活动槽，所述第三活动槽内设有限位弹簧(362)，所述限位弹簧(362)一端设有第二限位块(361)，所述底座(1)侧壁上设有第二连接块(11)，所述第二连接块(11)上设有与所述第二限位块(361)相配合的第二限位槽。

6.按照权利要求1所述的一种分散染料羟化中间体的研磨装置，其特征在于：所述第一活动槽内设有丝杆(32)，所述丝杆(32)穿设于所述活动块(35)上，所述第一活动槽顶部设有第四活动槽，所述活动块(35)上设有第三连接块，所述第三连接块顶部设有第二限位板(351)。

7.按照权利要求1所述的一种分散染料羟化中间体的研磨装置，其特征在于：所述第一活动槽内壁上设有第五活动槽，所述研磨轮(31)侧壁上设有与所述第五活动槽相配合的连接轴(311)，所述连接轴(311)外侧套设有固定套(353)，所述固定套(353)上设有第二连接杆(354)，所述第二连接杆(354)一端设于所述活动块(35)底部。

8.按照权利要求7所述的一种分散染料羟化中间体的研磨装置，其特征在于：所述活动块(35)侧壁上设有第二连接板，所述第二连接板底部设有第三连接板(352)，所述第三连接板(352)上设有第二活动腔，所述第二连接杆(354)穿设于所述第二活动腔内，所述第二连接杆(354)顶部设有连接弹簧(355)。