[实用新型]一种用于光学设备中的隔热装置

说明书

本实用新型公开一种用于光学设备中的隔热装置，它包括黑体炉1、制冷罩壳2、电机3、电机座4、不锈钢隔板5、靶轮组件6、隔热板7、遮光筒8、半导体制冷组件9，所述电机3是伺服电机3，所述制冷罩壳2的上方设置所述伺服电机3，所述黑体炉1位于所述伺服电机3的下方，所述制冷罩壳2是铜质制冷罩壳10，所述半导体制冷组件与所述铜质制冷罩壳相连，中和所述铜质制冷罩壳传递过来的热量，达到快速降温的目的。所述伺服电机通过电机座、不锈钢隔板连接到靶轮组件上，所述黑体炉的一端设有所述隔热板和遮光筒。本实用新型通过铜质制冷罩壳或者水冷制冷罩壳这样处理黑体炉，有效的减少热量对周围其他零件的影响。

技术领域

本发明属于应用于光学设备中黑体隔热手段，具体而言，是一种用于光学设备中的隔热装置。

背景技术

在光学系统中，对光源要求分为可见光源和不可见光源。可见光源就是正常光源，不可见光源则需要产生一定温度才能得到。正常不可见光源我们称之为黑体。黑体产生红外光线会发出热量。但是光学设备对温度也是非常敏感的。所以在有黑体的光学设备中，对黑体隔热就非常重要了。本次提出黑体隔热手段。

发明内容

针对现有技术中存在的问题，本发明采用的技术方案为：一种用于光学设备中的隔热装置，它包括黑体炉1、制冷罩壳2、电机3、电机座4、不锈钢隔板5、靶轮组件6、隔热板7、遮光筒8、半导体制冷组件9，所述电机3是伺服电机3，所述制冷罩壳2的上方设置所述伺服电机3，所述黑体炉1位于所述伺服电机3的下方，所述制冷罩壳2是铜质制冷罩壳10，所述半导体制冷组件9与所述铜质制冷罩壳10相连，中和所述铜质制冷罩壳10传递过来的热量，达到快速降温的目的。所述伺服电机3通过电机座4、不锈钢隔板5连接到靶轮组件6上，所述黑体炉1的一端设有所述隔热板7和遮光筒8。

同样道理，本发明的用于光学设备中的隔热装置，另一种方案为：它包括黑体炉1、制冷罩壳2、靶轮组件6、隔热板7、遮光筒8，所述制冷罩壳2是水冷制冷罩壳11，所述水冷制冷罩壳11由水冷罩壳组件12和水循环机13组成，所述黑体炉1的一端设有所述隔热板7和遮光筒8。所述黑体炉1置于过渡板14和上层板15上，并通过角铝固定件16固定。

整个设备是处于密封的罩壳组件17里，并置于支架18上，黑体炉1的发热会对里面其他零件产生影响。如图3、图4所示，整个水冷罩壳11主要分为两部分：水冷罩壳组件12；水循环机13。水冷罩壳11中水不断的流过，从而带走黑体炉1产生的热量。水循环机13通过源源不断的循环水。

有益效果：本发明通过铜质制冷罩壳或者水冷制冷罩壳这样处理黑体炉，有效的减少热量对周围其他零件的影响。

附图说明

图1为本发明实施例1的用于光学设备中的隔热装置结构示意图。

图2为本发明实施例1的用于光学设备中的隔热装置结构立体图。

图中，黑体炉1、制冷罩壳2、电机3、电机座4、不锈钢隔板5、靶轮组件6、隔热板7、遮光筒8、半导体制冷组件9，铜质制冷罩壳10。

图3为本发明实施例1的用于光学设备中的隔热装置结构示意图。

图4为本发明实施例1的用于光学设备中的隔热装置结构立体图。

图中，黑体炉1、制冷罩壳2、靶轮组件6、隔热板7、遮光筒8，水冷制冷罩壳11，水冷罩壳组件12，水循环机13，过渡板14，上层板15，角铝固定件16，罩壳组件17，支架18。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本发明作进一步详细说明。

现有技术的光学设备中使用黑体炉对光学靶标进行照射，黑体炉会产生高温，对其附近的其他光学设备有很大影响，为此需要加入制冷罩壳。

【实施例1】