[实用新型]一种SCR脱硝系统

权利要求书

1.一种SCR脱硝系统，包括主体，所述主体包括依次连通的流通段和反应段，所述流通段远离反应段的一端为烟气入口，其特征在于，还包括，

第一混合单元，包括第一整流格栅和第一静态混合器，所述第一整流格栅设置于所述反应段内，所述第一静态混合器靠近所述烟气入口设置于所述流通段内；

第一催化剂层及第二混合单元，所述第二混合单元设置于所述反应段内，且所述第一催化剂层设置于所述第一整流格栅与所述第二混合单元之间且位于所述反应段内，所述第二混合单元为第二整流格栅或第二静态混合器；

第二催化剂层，设置于所述反应段内，且相对于所述第二混合单元远离所述第一催化剂层设置。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，还包括第三催化剂层，设置于所述反应段内，且相对于所述第二催化剂层远离所述第一催化剂层设置。

3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，还包括第三混合单元，设置于所述反应段内，且设置于所述第二催化剂层与第三催化剂层之间，所述第三混合单元为第三整流格栅或第三静态混合器。

4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述第一整流格栅中结构单元的孔面积不小于第二整流格栅和/或第三整流格栅中结构单元的孔面积。

5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述第二整流格栅中结构单元的孔面积为所述第一整流格栅中结构单元孔面积的20-100％；

第三整流格栅中结构单元的孔面积为第一整流格栅中结构单元孔面积的20-100％。

6.根据权利要求3-5中任一项所述的系统，其特征在于，所述第二整流格栅与所述第二催化剂层的间距大于所述第二整流格栅与所述第一催化剂层间的间距；

所述第三整流格栅与所述第三催化剂层的间距大于所述第三整流格栅与所述第二催化剂层间的间距。

7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，沿反应段中烟气的前进的方向，

所述第一整流格栅固定在所述第一催化剂层前方5-500mm处；

所述第二整流格栅固定在所述第一催化剂层后方5-500mm处；

所述第三整流格栅固定在所述第二催化剂层后方5-500mm处。

8.根据权利要求3-5中任一项所述的系统，其特征在于，所述第一整流格栅由矩形结构单元依次排列构成阵列格栅，所述矩形结构单元的长为100-300mm，宽为20-200mm；

所述第二整流格栅由直角三角形结构单元依次排列构成阵列格栅，所述直角三角形结构单元的一直角边长为40-300mm，另一直角边长为20-200mm；或所述第二整流格栅由矩形结构单元依次排列构成阵列格栅，所述矩形结构单元的长为20-300mm，宽为20-200mm；

所述第三整流格栅由直角三角形结构单元依次排列构成阵列格栅，所述直角三角形结构单元的一直角边长为40-300mm，另一直角边长为20-200mm；或所述第三整流格栅由矩形结构单元依次排列构成阵列格栅，所述矩形结构单元的长为20-300mm，宽为20-200mm。

9.根据权利要求1-2中任一项所述的系统，其特征在于，还包括，

喷氨单元，设置于所述流通段内，且设置于所述烟气入口与所述第一静态混合器之间；

导流板，靠近所述流通段和反应段的交界处设置于所述流通段内。

10.根据权利要求9所述的系统，其特征在于，所述流通段与反应段连通形成U型主体，所述导流板设置于所述U型主体的U型底；

所述导流板包括相对设置的第一导流板和第二导流板，所述第一导流板靠近所述流通段的一侧设置。