[实用新型]一种双平台轨道式定位压烫机

权利要求书

1.一种双平台轨道式定位压烫机，其特征在于：包括底座，在所述底座的左右两侧对应设置有两个压烫机，分别为第一压烫机和第二压烫机，所述第一压烫机和所述第二压烫机中间存在间隔；所述第一压烫机包括第一压烫底板和第一压烫压板，所述第二压烫机包括第二压烫底板和第二压烫压板；所述底座上设置有一条直线导轨，所述第一压烫底板和所述第二压烫底板可移动地设置在所述直线导轨上，所述第一压烫压板和所述第二压烫压板位于所述直线导轨左右两侧的上方，同时所述第一压烫压板和所述第二压烫压板都连接伸缩气缸。

2.根据权利要求1所述的一种双平台轨道式定位压烫机，其特征在于：所述底座上设置有三个区域，位于所述第一压烫压板下方的直线导轨部位为第一压烫区，位于所述第二压烫压板下方的直线导轨部位为第二压烫区，位于所述第一压烫机和所述第二压烫机中间的直线轨道部位为定位区。

3.根据权利要求1所述的一种双平台轨道式定位压烫机，其特征在于：所述第一压烫机还包括第一支架，所述第二压烫机还包括第二支架，所述第一支架和第二支架结构相同，都为7字形构造，所述第一支架和所述第二支架的底部固定在所述底座上，所述第一支架和所述第二支架的顶部设置有机罩壳，所述伸缩气缸设置在机罩壳内。

4.根据权利要求1所述的一种双平台轨道式定位压烫机，其特征在于：所述伸缩气缸的伸缩杆一共设置有四根，四根所述伸缩杆均匀地分布在压板的上表面。