[实用新型]一种双面研磨抛光机

说明书

本实用新型涉及一种双面研磨抛光机，涉及研磨抛光设备的技术领域，解决了现有抛光机需要使用研磨液的问题，其包括下研磨盘上靠近上研磨盘的一侧设置有用于研磨工件的第一研磨块，上研磨盘上靠近下研磨盘的一侧设置有第二研磨块，第一研磨块与第二研磨块的表面上均做过喷砂处理；上研磨盘与下研磨盘之间设置有若干用于固定工件的齿轮盘，齿轮盘上设置有若干供工件安装的安装孔；传动轴上远离电机的一端设置有轴承，轴承上设置有用于盖合传动轴和轴承的套筒。本实用新型具有安装方便、清理简单的效果。

技术领域

本实用新型涉及研磨抛光设备的技术领域，尤其是涉及一种双面研磨抛光机。

背景技术

研磨抛光机主要用于两面平行的晶体或者其他的机械零件进行研磨，特别是薄脆性材料的加工。适用于各种材质的机械金属密封环、陶瓷片、气缸活塞环、油泵叶片轴承端面，以及硅、石英晶体、蓝宝石、玻璃等材料的平面研磨和抛光。

现有的研磨抛光机在研磨操作时，要向研磨腔内加入研磨液，研磨液有润滑油、金属砂、等组织构成，在研磨机高速运转下对产品进行研磨，以达到抛光的目的。

上述中的现有技术方案存在以下缺陷：研磨液的制作,需要事先将润滑油与金属砂按照规定的比例配置好，一旦在研磨液使用完之后，需要将研磨液进行清理，由于金属砂与润滑油混合后呈黏絮状，因此导致清洗的工作较大，还有改进的空间。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种双面研磨抛光机，安装方便、容易清理。

本实用新型的上述实用新型目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种双面研磨抛光机，包括操作台、设置于操作台上的电机、设置于操作台上且通过电机带动的传动轴、设置于操作台上且用于研磨工件的下研磨盘、与下研磨盘配合的上研磨盘，所述下研磨盘上靠近上研磨盘的一侧设置有用于研磨工件的第一研磨块，所述上研磨盘上靠近下研磨盘的一侧设置有与第一研磨块同步配合的第二研磨块；

所述上研磨盘与下研磨盘之间设置有若干用于固定工件的齿轮盘，所述齿轮盘上设置有若干供工件安装的安装孔；

所述传动轴上靠近上研磨盘的一端设置有与齿轮盘相互啮合的传动齿轮，所述操作台上靠近齿轮盘的一侧设置有与齿轮盘相互啮合限位的限位齿环。

通过采用上述技术方案，第一研磨块与第二研磨块相互配合，使得工件的研磨抛光效果更好，提高研磨抛光的效率，喷砂处理后的第一研磨块与第二研磨块对工件的研磨效果更好，进一步提高了对工件的研磨效果，齿轮盘的设置，使工件之间不会碰撞抵触，减少工件相互之间碰撞而造成的损坏；传动齿轮与限位齿环相互配合，使得齿轮盘在实际运转中不易脱离，加强齿轮盘安装的稳定性。

本实用新型进一步设置为：所述传动轴上远离电机的一端设置有轴承，所述轴承上设置有用于盖合传动轴和轴承的套筒。

通过采用上述技术方案，轴承与套筒的相互配合，使得电机在带动传动轴旋转的同时，套筒不会跟随传动轴一起转动，在上研磨盘压紧在工件上时，上研磨盘不会跟随传动轴旋转，提高研磨抛光效果。

本实用新型进一步设置为：所述上研磨盘上设置有与套筒相互卡接限位的限位块，所述套筒上设置有与限位块相互卡接限位的限位槽。

通过采用上述技术方案，限位块与限位槽相互配合，使得上研磨盘与下研磨盘能够对的更加准确，降低安装难度，且限位块与限位槽的设置，使得套筒不会与传动轴一同旋转，提高抛光研磨效率。

本实用新型进一步设置为：所述第一研磨块与第二研磨块上靠近工件的一侧均设置有纹路。

通过采用上述技术方案，由于第一研磨块与第二研磨块作用在工件上的压力相同，防护纹路的设置使得第一研磨块与第二研磨块作用在工件上的接触面积减小，从而压强变大，所以防护纹路的设置使得研磨抛光的效果更好。