[实用新型]电解法制高纯铟残阳板清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种电解法制高纯铟残阳板清洗装置包括机架，从机架的一端至另一端设有依次相邻接的入板段、清洗室、冲洗室和出板段，在出板段与入板段上均设有输送辊；清洗室具有与入板段的输送辊相邻接的多对压送辊组，压送辊组具有呈上下设置的上压送辊和下压送辊，机架于近上压送辊处间隔设有多个上辊刷，机架于近下压送辊处间隔设有多个下辊刷，机架于近每个上辊刷处及下辊刷处均至少设有一个辊刷喷嘴；冲洗室具有设在压送辊组与出板段的输送辊之间的冲洗输送辊组，机架于冲洗输送辊组的上方和下冲均设有多个冲洗喷嘴。与现有技术相比，本实用新型可以解决现有高纯铟残阳板的清洗效率较低的问题。

技术领域

本实用新型涉及铟片清洗装置制造技术领域，尤其是一种用于电解法制高纯铟残阳板的清洗装置。

背景技术

金属铟属于稀有金属，至今为止没有发现过富矿，主要呈类质同象存在于铁闪锌矿、赤铁矿、方铅矿以及其他多金属硫化物矿石中；由于未发现独立铟矿，工业上是通过提纯废锌、废锡的方法生产金属粗铟，之后主要通过电解精炼方法获得高纯度铟。当前，在半导体及薄膜太阳能电池以及ITO等生产加工领域对金属铟的纯度有很高的要求。高纯铟的电解工序中，在电场作用下，阳极电位比铟高的金属留在阳极泥中，不能进入电解液；电解液中阳极电位比铟低的金属绝大部分留在电解液中，从而在阴极析出纯度高的铟，形成铟片；在电解3-4个周期后，阳极上的铟绝大多数转移到阴极，电解后的阳极称之为残阳极；由于残阳极表面还残留部分电解液、阳极泥以及电解过程中添加的添加剂等，需要经过清洗去除这些杂质，之后再补充物料重新熔化浇铸等待下次电解使用；目前残阳级的清洗主要是依靠人工使用刷子来清洗，劳动强度大，清洗效率较低，同时也不利于产能的提高。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种电解法制高纯铟残阳板清洗装置，以解决现有高纯铟残阳板的清洗效率较低的问题。

本实用新型解决技术问题所采用的技术方案为：这种电解法制高纯铟残阳板清洗装置包括机架，从所述机架的一端至另一端设有依次相邻接的入板段、清洗室、冲洗室和出板段，在所述出板段与所述入板段上均设有输送辊；所述清洗室具有与所述入板段的输送辊相邻接的多对压送辊组，所述压送辊组具有呈上下设置的上压送辊和下压送辊，所述机架于近所述上压送辊处间隔设有多个上辊刷，所述机架于近所述下压送辊处间隔设有多个下辊刷，所述机架于近每个所述上辊刷处及所述下辊刷处均至少设有一个辊刷喷嘴；冲洗室具有设在所述压送辊组与所述出板段的输送辊之间的冲洗输送辊组，所述冲洗输送辊组具有呈上下设置的上冲洗输送辊和下冲洗输送辊；所述机架于所述上冲洗输送辊的上方和所述下冲洗输送辊的下方均设有多个冲洗喷嘴。

上述电解法制高纯铟残阳板清洗装置技术方案中，更具体的技术方案还可以是：多个所述下辊刷与多个所述上辊刷呈交错设置，每个所述下辊刷下方设有一个与所述下压送辊平齐的下辅助输送辊，每个所述下辊刷的上方设有一个与所述上压送辊平齐的上辅助输送辊。

进一步的：所述下压送辊与所述入板段的输送辊呈平齐设置，所述下冲洗输送辊与所述出板段的输送辊呈平齐设置，所述下冲洗输送辊与所述下压送辊呈平齐设置。

进一步的：所述机架于所述清洗室的所述压送辊组下方设有第一集水槽，所述机架于所述冲洗室的所述冲洗输送辊组下方设有第二集水槽。

进一步的：所述清洗室于近所述入板段的侧壁上设有进板口，在所述清洗室与所述冲洗室之间的侧壁上设有过渡口，所述冲洗室于近所述出板段的侧壁上设有出板口，所述出板口、所述进板口和所述过渡口均为短边位于高度方向的矩形。

进一步的：近所述上辊刷处的所述辊刷喷嘴的喷口朝向所述上辊刷，近所述下辊刷处的所述辊刷喷嘴的喷口朝向所述下辊刷；位于所述上冲洗输送辊的上方的多个所述冲洗喷嘴的喷口朝向所述上冲洗输送辊，位于所述下冲洗输送辊下方的所述冲洗喷嘴的喷口朝向所述下冲洗输送辊。