[实用新型]一种光学多层薄膜

权利要求书

1.一种光学多层薄膜，其特征在于：所述光学多层薄膜由二氧化硅层和二氧化钛层交替组成，总层数为50层，总物理厚度3063nm。

2.一种包含权利要求1所述光学多层薄膜的光波辐照过滤装置，其特征在于所述装置包括：前置耐高温石英玻璃和后置耐高温石英玻璃；所述前置耐高温石英玻璃和所述后置耐高温石英玻璃的外侧面镀有所述光学多层薄膜；所述前置耐高温石英玻璃和所述后置耐高温石英玻璃贴合在两块齿轮状散热片圆形凹槽中；其中所述前置耐高温石英玻璃镀有所述光学多层薄膜的面向光源一侧，所述后置耐高温石英玻璃镀有所述光学多层薄膜的面向外；所述前置耐高温石英玻璃和所述后置耐高温石英玻璃放置于两片贴有玻璃、中间通透的齿轮状散热片中；所述两片散热片贴合固定，中间保留的缝隙用去离子水填充直至充满，形成离子液体层。

3.如权利要求1所述光学多层薄膜，其特征在于，所述光学多层薄膜，其内部结构如下：

基底材料：玻璃

第1层：二氧化钛，物理厚度：11.40nm，

第2层：二氧化硅，物理厚度：82.98nm，

第3层：二氧化钛，物理厚度：27.40nm，

第4层：二氧化硅，物理厚度：55.50nm，

第5层：二氧化钛，物理厚度：35.36nm，

第6层：二氧化硅，物理厚度：44.06nm，

第7层：二氧化钛，物理厚度：50.18nm，

第8层：二氧化硅，物理厚度：54.50nm，

第9层：二氧化钛，物理厚度：46.04nm，

第10层：二氧化硅，物理厚度：62.77nm，

第11层：二氧化钛，物理厚度：27.3nm，

第12层：二氧化硅，物理厚度：53.4nm，

第13层：二氧化钛，物理厚度：31.54nm，

第14层：二氧化硅，物理厚度：66.11nm，

第15层：二氧化钛，物理厚度：52.30nm，

第16层：二氧化硅，物理厚度：51.43nm，

第17层：二氧化钛，物理厚度：63.39nm，

第18层：二氧化硅，物理厚度：51.35nm，

第19层：二氧化钛，物理厚度：50.08nm，

第20层：二氧化硅，物理厚度：73.97nm，

第21层：二氧化钛，物理厚度：39.13nm，

第22层：二氧化硅，物理厚度：87.54nm，

第23层：二氧化钛，物理厚度：45.98nm，

第24层：二氧化硅，物理厚度：72.94nm，

第25层：二氧化钛，物理厚度：58.23nm，

第26层：二氧化硅，物理厚度：72.86nm，

第27层：二氧化钛，物理厚度：50.02nm，

第28层：二氧化硅，物理厚度：93.30nm，

第29层：二氧化钛，物理厚度：45.28nm，

第30层：二氧化硅，物理厚度：81.44nm，

第31层：二氧化钛，物理厚度：62.7nm，

第32层：二氧化硅，物理厚度：59.64nm，

第33层：二氧化钛，物理厚度：65.09nm，

第34层：二氧化硅，物理厚度：80.29nm，

第35层：二氧化钛，物理厚度：42.51nm，

第36层：二氧化硅，物理厚度：105.55nm，

第37层：二氧化钛，物理厚度：46.02nm，

第38层：二氧化硅，物理厚度：69.49nm，

第39层：二氧化钛，物理厚度：74.14nm，

第40层：二氧化硅，物理厚度：54.34nm，

第41层：二氧化钛，物理厚度：55.96nm，

第42层：二氧化硅，物理厚度：106.02nm，

第43层：二氧化钛，物理厚度：24.51nm，

第44层：二氧化硅，物理厚度：129.06nm，

第45层：二氧化钛，物理厚度：41.22nm，

第46层：二氧化硅，物理厚度：44.63nm，

第47层：二氧化钛，物理厚度：133.89nm，

第48层：二氧化硅，物理厚度：20.98nm，

第49层：二氧化钛，物理厚度：50.21nm，

第50层：二氧化硅，物理厚度：159.92nm。