[实用新型]一种清洗光罩的装置有效
| 申请号: | 201921299428.5 | 申请日: | 2019-08-12 |
| 公开(公告)号: | CN210270506U | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
| 发明(设计)人: | 凌永康;张勇;杜良辉 | 申请(专利权)人: | 江苏壹度科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 212400 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 清洗 装置 | ||
1.一种清洗光罩的装置,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)表面开设有第一凹槽(1a),所述第一凹槽(1a)的底部设有电机(6),所述底座(1)的顶部设有清洗室(2),所述清洗室(2)底部靠近内壁的位置竖直开设有出水口(20),所述出水口(20)的底部设有出水接口(4),所述清洗室(2)的底部中心处竖直开设有第一通孔(21),所述清洗室(2)的底部且位于靠近所述第一通孔(21)的位置由内向外设有若干个第一环形刷(9),所述清洗室(2)的顶部设有顶盖(3),所述顶盖(3)的底部开设有第二凹槽(30),所述第二凹槽(30)底部靠近内壁的位置竖直开设有进水口(300),所述进水口(300)的顶部设有进水接口(5),所述第二凹槽(30)的底部中心处设有环形圆柱槽(31),所述第二凹槽(30)的底部且位于靠近所述环形圆柱槽(31)的位置由内向外依次设有若干个第二环形刷(10),所述第一环形刷(9)和所述第二环形刷(10)之间设有对称分布的第一固定盘(7)和第二固定盘(8)。
2.根据权利要求1所述的清洗光罩的装置,其特征在于:所述第一固定盘(7)的表面中心处设有第二通孔(70),所述第一固定盘(7)的表面开设有若干个以环形阵列排布的第三通孔(71),每个所述第三通孔(71)的内壁均设有环形限位块(710),所述第二固定盘(8)与所述第一固定盘(7)为相同规格的结构。
3.根据权利要求1所述的清洗光罩的装置,其特征在于:所述清洗室(2)的底部中心处设有机械密封块(11),所述电机(6)的输出轴依次穿过所述机械密封块(11)、所述清洗室(2)、所述第一固定盘(7)和所述第二固定盘(8)且与所述环形圆柱槽(31)转动连接。
4.根据权利要求1所述的清洗光罩的装置,其特征在于:所述第一固定盘(7)与所述电机(6)的输出轴固定连接。
5.根据权利要求1所述的清洗光罩的装置,其特征在于:所述第一环形刷(9)的位置和所述第二环形刷(10)的位置相对应且数量相同,所述第一环形刷(9)和所述第二环形刷(10)为相同规格的结构。
6.根据权利要求1所述的清洗光罩的装置,其特征在于:所述第二凹槽(30)的内壁高度为所述清洗室(2)的圆周外侧高度的一半。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





