[实用新型]一种多晶硅清洗设备

说明书

本实用新型公开了一种多晶硅清洗设备,包括多晶硅清洗设备本体，在多晶硅清洗设备本体上设有支架，转台机构安装槽，夹料机构，夹料机构滑槽，移动滑轨，载料转盘，上料机构，上料机构安装支架，转盘电机，清洗机箱，出水孔,清洗槽，吸头，连接杆，传送带支架，传送带，辊轴，移动块，伺服电机，滚轮，气泵，连接螺纹头，放料载盘，多晶硅清洗设备本体上设有清洗机箱，在清洗机箱的一端安装有上料机构，通过上料机构不断地向清洗机箱的内部输送清洗的物料，物料在夹料机构的夹持下在清洗槽的内部进行清洗，该装置设计合理，实现对多晶硅的自动化清洗，清洗效率高。

技术领域

本实用新型涉及多晶硅清洗技术领域，具体为一种多晶硅清洗设备。

背景技术

多晶硅，是单质硅的一种形态。熔融的单质硅在过冷条件下凝固时，硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核，如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒，则这些晶粒结合起来，就结晶成多晶硅。

利用价值：从目前国际太阳电池的发展过程可以看出其发展趋势为单晶硅、多晶硅、带状硅、薄膜材料。

多晶硅有灰色金属光泽，密度2.32~2.34g/cm3。熔点1410℃。沸点2355℃。溶于氢氟酸和硝酸的混酸中，不溶于水、硝酸和盐酸。硬度介于锗和石英之间，室温下质脆，切割时易碎裂。加热至800℃以上即有延性，1300℃时显出明显变形。常温下不活泼，高温下与氧、氮、硫等反应。高温熔融状态下，具有较大的化学活泼性，能与几乎任何材料作用。具有半导体性质，是极为重要的优良半导体材料，但微量的杂质即可大大影响其导电性。电子工业中广泛用于制造半导体收音机、录音机、电冰箱、彩电、录像机、电子计算机等的基础材料。由干燥硅粉与干燥氯化氢气体在一定条件下氯化，再经冷凝、精馏、还原而得。

多晶硅材料在生产过程中需要进行清洗，目前，在多晶硅材料的清洗方面还有待改进。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种多晶硅清洗设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种多晶硅清洗设备,包括多晶硅清洗设备本体，所述多晶硅清洗设备本体上设有清洗机箱，清洗机箱的内部一端设有转台机构安装槽，转台机构安装槽的内部设有转盘电机，所述转盘电机的转轴上设有载料转盘，所述转台机构安装槽的一侧设有清洗槽，相邻的清洗槽之间设有隔板，所述清洗机箱的内侧顶部设有移动滑轨，移动滑轨的内部设有夹料机构滑槽，所述夹料机构滑槽的内部设有夹料机构，所述清洗机箱的一侧外部设有上料机构安装支架，上料机构安装支架的上方设有上料机构。

优选的，所述上料机构上的中央设有安装轴，安装轴的外部设有传送带支架，所述传送带支架与安装轴的外壁之间焊接连接，所述传送带支架的两侧均设有传送带，传送带的内部两端设有辊轴，相邻的两个传送带之间设有传送槽。

优选的，所述夹料机构上设有移动块，移动块的两端内部设有伺服电机，所述伺服电机的转轴上设有滚轮，所述移动块的下方中央设有气泵，气泵的上方设有气缸，气泵的下方推杆上设有连接杆，所述连接杆的底部端头上设有连接螺纹头，连接杆的内部中央设有通孔，所述连接螺纹头上设有吸头，吸头与连接杆之间连通。

优选的，所述载料转盘的中央设有连接孔，所述载料转盘的上表面对称设有放料载盘，放料载盘固定在载料转盘上。

优选的，所述清洗机箱的侧壁底部中央设有出水孔，相邻的两个清洗机箱之间的隔板顶部设有放料载盘。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

多晶硅清洗设备本体上设有清洗机箱，在清洗机箱的一端安装有上料机构，通过上料机构不断地向清洗机箱的内部输送清洗的物料，物料在夹料机构的夹持下在清洗槽的内部进行清洗，该装置设计合理，实现对多晶硅的自动化清洗，清洗效率高。

附图说明

图1为本实用新型多晶硅清洗设备本体结构示意图；