[实用新型]一种用于镁电解槽的真空系统有效
申请号: | 201921214018.6 | 申请日: | 2019-07-30 |
公开(公告)号: | CN210394542U | 公开(公告)日: | 2020-04-24 |
发明(设计)人: | 何永平;严雄仲;孙海东;邢红;王世蛟;金生军;汪万清;白顺梅;昝仁鹏;运建月 | 申请(专利权)人: | 青海盐湖工业股份有限公司 |
主分类号: | C25C3/04 | 分类号: | C25C3/04;C25C7/06 |
代理公司: | 北京国帆知识产权代理事务所(普通合伙) 11334 | 代理人: | 刘小哲;刘宇航 |
地址: | 816000 青海省海西*** | 国省代码: | 青海;63 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 电解槽 真空 系统 | ||
本实用新型公开一种用于镁电解槽的真空系统,所述真空系统包括分配器筒体、设于所述分配器筒体上的至少一个真空支管、设于所述分配器筒体一端的真空总管、设于所述分配器筒体另一端的排液口、以及与所述真空总管连接的真空泵;所述真空支管通过连接管与镁电解槽连通。本实用新型提供的用于镁电解槽的真空系统利用真空环境将所述镁电解槽中残留的酸性气体及液体充分排净,避免酸性气体及液体残留而腐蚀槽壳,延长镁电解槽的使用寿命,保证安全生产。
技术领域
本实用新型涉及电解镁技术领域,特别是涉及一种用于镁电解槽的真空系统。
背景技术
镁电解槽是生产金属镁的主要设备,新电解槽启动时,常利用烘炉设备按照烘炉曲线对电解槽内部进行烘烤,期间会产生酸性气体及液体,聚集在镁电解槽的耐火砖和槽壳之间,若烘烤不彻底,酸性气体及液体很难充分排出,常残留于电解槽内,后期运行时槽壳易发生腐蚀,缩短镁电解槽的使用寿命,同时也威胁到安全生产。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于镁电解槽的真空系统,以解决现有技术中镁电解槽烘烤不彻底、酸性气体及液体很难充分排出导致镁电解槽易腐蚀、寿命短的问题。
为了实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于镁电解槽的真空系统,所述真空系统包括真空泵、与所述真空泵连接的分配器筒体、设于所述分配器筒体一端的真空总管、设于所述分配器筒体另一端的排液口、以及设于所述分配器筒体上的至少一个真空支管;所述真空泵通过所述真空总管与所述分配器筒体连接,所述真空支管通过连接管与镁电解槽连通。
进一步地,所述分配器筒体呈倾斜设置,所述真空总管高于所述排液口。
进一步地,所述真空泵为水环式真空泵。
进一步地,所述真空系统还包括用于支撑所述分配器筒体的支架。
进一步地,所述支架为至少一个角铁支撑架。
进一步地,所述连接管为内衬钢丝橡胶软管。
进一步地,所述真空泵与尾气处理系统连接。
相比于现有技术,本实用新型提供的用于镁电解槽的真空系统具有以下优势:
本实用新型提供的用于镁电解槽的真空系统利用真空环境将所述镁电解槽中残留的酸性气体及液体充分排净,避免酸性气体及液体残留而腐蚀槽壳,延长镁电解槽的使用寿命,保证安全生产。
附图说明
通过阅读下文优选实施方式的详细描述,各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的,而并不认为是对本实用新型的限制。在附图中:
图1为本实用新型提供的一种优选实施方式的用于镁电解槽的真空系统的结构示意图。
附图标记:
1-真空泵, 2-分配器筒体,
3-真空总管, 4-排液口,
5-真空支管, 6-支架,
61-第一角铁支撑架, 62-第二角铁支撑架。
具体实施方式
本实用新型提供了许多可应用的创造性概念,该创造性概念可大量的体现于具体的上下文中。在下述本实用新型的实施方式中描述的具体的实施例仅作为本实用新型的具体实施方式的示例性说明,而不构成对本实用新型范围的限制。
下面结合附图和具体的实施方式对本实用新型作进一步的描述。
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