[实用新型]防气体混杂的多靶位磁控溅射镀膜机改进结构

说明书

本实用新型公开了一种防气体混杂的多靶位磁控溅射镀膜机改进结构，包括箱体、放料盘、收料盘、镀膜保护罩、转轴、四组靶材组件和若干个隔离挡板，镀膜保护罩设于箱体内部上方，放料盘、收料盘设于箱体内部下方且位于镀膜保护罩两侧，转轴设于镀膜保护罩内部正中处，膜材从放料盘引出并绕过转轴后系挂在收料盘上，四组靶材组件均匀分布设置在镀膜保护罩内，若干个隔离挡板都卡设在镀膜保护罩内且位于靶材组件两侧；不同靶材通过挡板隔离防止气体混杂，可多靶位同时镀膜，生产效率高，相互之间互不影响镀膜效果好，产品质量高良品率高，材料浪费少材料成本低。

技术领域

本实用新型属于镀膜设备领域，特别涉及一种产品质量高、生产效率高的防气体混杂多靶位磁控溅射镀膜机改进结构。

背景技术

磁控溅射镀膜机上一般都会设置多个靶位，每个靶位上放置不同靶材，每种靶材镀膜时需要充入不同的气体，一个靶材镀膜完再进行下一个靶材，这种一个靶材镀完再进行下一个的方式可以满足一定的使用要求，但是也存在较大缺陷，依次镀膜效率低，上一次镀膜气体会残留，影响下一个镀膜效果，镀膜出的产品质量差，良品率低，材料浪费大材料成本高。

本实用新型要解决的技术问题是提供一种可同时镀膜、气体不混杂、不影响其他靶材镀膜效果、产品质量好、良品率高、材料浪费少材料成本低的防气体混杂多靶位磁控溅射镀膜机改进结构。

实用新型内容

为解决上述现有技术依次镀膜效率低、气体残留混杂影响镀膜效果、产品质量差良品率低、材料浪费大材料成本高等问题，本实用新型采用如下技术方案：

本实用新型提供一种防气体混杂的多靶位磁控溅射镀膜机改进结构，包括箱体、放料盘、收料盘、镀膜保护罩、转轴、四组靶材组件和若干个隔离挡板，所述镀膜保护罩设于箱体内部上方，所述放料盘、收料盘设于箱体内部下方且位于镀膜保护罩两侧，所述转轴设于镀膜保护罩内部正中处，所述放料盘、收料盘、转轴上都设有转动电机，膜材从放料盘引出并绕过转轴后系挂在收料盘上，所述四组靶材组件均匀分布设置在镀膜保护罩内，所述若干个隔离挡板都卡设在镀膜保护罩内且位于靶材组件两侧，所述靶材组件包括基座、两个靶位和两个靶材，所述基座固定在镀膜保护罩上，所述两个靶位并排固设在基座上，所述两个靶材对应设置在两个靶位前端。

本实用新型的有益效果在于：不同靶材通过挡板隔离防止气体混杂，可多靶位同时镀膜，生产效率高，相互之间互不影响镀膜效果好，产品质量高良品率高，材料浪费少材料成本低。

附图说明

图1为本实用新型一种实施例的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本实用新型的优选实施例。

请参阅图1，一种防气体混杂的多靶位磁控溅射镀膜机改进结构，包括箱体1、放料盘2、收料盘3、镀膜保护罩4、转轴5、四组靶材组件6和若干个隔离挡板7，所述镀膜保护罩4设于箱体1内部上方，所述放料盘2、收料盘3设于箱体1内部下方且位于镀膜保护罩4两侧，所述转轴5设于镀膜保护罩4内部正中处，所述放料盘2、收料盘3、转轴5上都设有转动电机8，膜材从放料盘2引出并绕过转轴5后系挂在收料盘3上，所述四组靶材组件6均匀分布设置在镀膜保护罩4内，所述若干个隔离挡板7都卡设在镀膜保护罩4内且位于靶材组件6两侧，所述靶材组件6包括基座61、两个靶位62和两个靶材63，所述基座61固定在镀膜保护罩4上，所述两个靶位62并排固设在基座16上，所述两个靶材63对应设置在两个靶位62前端，每种靶材之间通过隔离挡板隔离开，每个靶材组件形成独立空间，镀膜时充入不同其他也不会混合，可多靶位同时镀膜，镀膜效率高，产品质量高良品率高。

本实用新型的有益效果在于：不同靶材通过挡板隔离防止气体混杂，可多靶位同时镀膜，生产效率高，相互之间互不影响镀膜效果好，产品质量高良品率高，材料浪费少材料成本低。

上述实施例和图式并非限定本实用新型的产品形态和式样，任何所属技术领域的普通技术人员对其所做的适当变化或修饰，皆应视为不脱离本实用新型的专利范畴。