[实用新型]冷光阑与探测器系统有效
申请号: | 201920934740.0 | 申请日: | 2019-06-20 |
公开(公告)号: | CN210270235U | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 张皓星;王晓东;王兵兵;陈雨璐;张传胜;杨雄 | 申请(专利权)人: | 上海微波技术研究所(中国电子科技集团公司第五十研究所) |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00 |
代理公司: | 上海段和段律师事务所 31334 | 代理人: | 李佳俊;郭国中 |
地址: | 200063 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光阑 探测器 系统 | ||
本实用新型提供了一种冷光阑,包含铝制本体,所述铝制本体包含本体侧壁与本体底壁,本体侧壁与本体底壁一体成型或紧固连接;铝制本体内部形成容纳腔;所述本体底壁位于本体侧壁沿轴向方向的一端,本体侧壁沿轴向方向的另一端设置有连接部,连接部与本体侧壁一体成型或紧固连接;所述本体侧壁上设置有凹入部,所述凹入部从本体侧壁向容纳腔中延伸,凹入部内部形成凹腔,凹腔的底壁上设置有腔底圆孔。本实用新型还提供了一种包含上述冷光阑的探测器系统。本实用新型提供的冷光阑能有效降低阻挡杂质带探测器背景杂散辐射,提高信噪比同时冷光阑加工工艺简单,且自身所发出的背景杂散辐射以及外壁反射、折射的杂散辐射对探测器影响极小可忽略不计。
技术领域
本实用新型涉及探测设备领域,具体地,涉及一种冷光阑与探测器系统,特别是一种用于阻挡杂质带探测器降低背景杂散辐射影响的冷光阑与探测器系统。
背景技术
背景杂散辐射是限制器件性能的重要因素,降低背景杂散辐射可有效提高器件信噪比,提高探测器性能。为降低探测器背景杂散辐射可采用在杜瓦窗口处加装KRS5滤波片、在杜瓦内装冷光阑以及在冷光阑开口处装低通滤波片的方法。
现有技术,中国实用新型专利《一种激光冷光阑》(公开号:200997027Y)包括定位法兰、吸收光阑,其特点在于所述的定位法兰侧壁的环面上开设有一个进水孔和一个出水孔,定位法兰内具有与进水孔和出水孔相联通的进水通道和出水通道,定位法兰的中心处具有圆孔,圆孔孔壁的中部向内凸设有环形凸台,圆孔孔壁的前部和后部分别设有内螺纹;内壁反射面为向外倾斜的锥面。吸收光阑内壁的锥面及连接圆筒的内壁面上分别具有高吸收、高燃点的金属氧化物涂层。本实用新型可实现二次以上的吸收反射,具有保证选膜时强光束的快吸收和所选低阶膜的光束质量、机械复位精度高、对冷却水质要求低等优点。
通常情况下,为降低背景杂散辐射,选择在杜瓦开孔处装KRS5滤波片。KRS5滤波片可以把外界大部分杂散背景辐射过滤掉,只有波长为600nm~40μm的辐射可以穿过KRS5进入杜瓦,照射到探测器上,但是由于KRS5滤波片处于室温环境下并且正对探测器,它自身所发出的杂散辐射对探测器背景噪声的影响比较大;另外由于探测器直接放置于杜瓦中,杜瓦内壁所发出的杂散辐射也会对探测器背景噪声造成影响。
实用新型内容
针对现有技术中的缺陷,本实用新型的目的是提供一种冷光阑与探测器系统。
根据本实用新型提供的冷光阑,包含铝制本体,所述铝制本体包含本体侧壁(4)与本体底壁(5),本体侧壁(4)与本体底壁(5)一体成型或紧固连接;铝制本体内部形成容纳腔;
所述本体底壁(5)位于本体侧壁(4)沿轴向方向的一端,本体侧壁(4)沿轴向方向的另一端设置有连接部,连接部与本体侧壁(4)一体成型或紧固连接;
所述本体侧壁(4)上设置有凹入部(8),所述凹入部(8)从本体侧壁(4)向容纳腔中延伸,凹入部(8)内部形成凹腔,凹腔的底壁上设置有腔底圆孔(6)。
优选地,所述凹腔横截面形状为圆形;凹腔的侧壁上设置有环形凹槽(7),环形凹槽(7)的横截面形状为半圆形。
优选地,所述连接部包含径内向延伸部(2)与径外向延伸部(3);本体侧壁(4)、径外向延伸部(3)、径内向延伸部(2)依次连接;
径外向延伸部(3)外径大于本体侧壁(4),径内向延伸部(2)内径小于本体侧壁(4)。
优选地,所述径内向延伸部(2)上设置有螺纹(1)孔,多个所述螺纹(1)孔在径内向延伸部(2)的周向方向上布置。
优选地,所述铝制本体的外壁、内壁上分别设置有第一氧化铝覆层、第二氧化铝覆层。
优选地,所述第二氧化铝覆层的表面为抛光表面;所述第二氧化铝覆层厚10μm。
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