[实用新型]一种阿胶生产用分离机清洗控制装置有效
申请号: | 201920852025.2 | 申请日: | 2019-06-06 |
公开(公告)号: | CN210146252U | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 刘贺虎;王学生;张友飞;毛培翼 | 申请(专利权)人: | 龟鹿药业集团有限公司 |
主分类号: | B04B13/00 | 分类号: | B04B13/00;B04B15/06;B08B13/00 |
代理公司: | 郑州博派知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 41137 | 代理人: | 荣永辉 |
地址: | 453000 河南*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阿胶 生产 分离 清洗 控制 装置 | ||
本实用新型的一种阿胶生产用分离机清洗控制装置,浊度检测模块将检测的分离机浊度信号转换为电流信号,经信号转换模块转换为电压信号、放大后,进入浊度判断模块与洁净阈值电压进行比较,输出高低电平触发清洗驱动模块中双稳态触发器的工作状态,进而控制分离机的清洗状态或分离状态。本实用新型采用TS浊度传感器检测清洗液的污浊程度转换为电流信号,避免了人为通过观察观察镜判断误判的发生,电流信号经转换为电压信号、放大后,与洁净阈值电压进行比较,输出高低电平触发三极管Q2、Q1组成的双稳态触发器的工作状态,进而控制串在三极管Q2、Q1发射极的光电耦合器U3、U2状态,驱动相应的三极管Q3/Q4导通,进而自动控制分离机的清洗状态或分离状态。
技术领域
本实用新型涉及阿胶生产用分离机技术领域,特别是一种阿胶生产用分离机清洗控制装置。
背景技术
现有技术:授权公告号为CN206793931U的一种阿胶生产用分离机清洗控制装置,通过在分离机上设置进料阀、出料阀、清洗阀、回流阀、循环水泵,分离时,启动分离机完毕后,打开进料控制阀,关闭清洗阀,打开出料控制阀,关闭回流阀,分离机开始分离料液,当胶汁分离完毕后,设备需要清洗,关闭进料控制阀,关闭出料控制阀,打开清洗阀,打开回流阀,启动循环水泵,开始循环清洗,并在循环管上设置观察镜,判断清洗是否彻底,如此经过多次更换清洗液,达到清洁彻底,然而,上述分离/清洗时的阀门控制及清洗是否彻底的判断依赖人的操作,不能实现自动控制,劳动强度大。
因此本实用新型提供一种的新的方案来解决此问题。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型目的是提供一种阿胶生产用分离机清洗控制装置,有效的解决了分离/清洗时的阀门控制及清洗是否彻底的判断依赖人的操作,不能实现自动控制,劳动强度大的问题。
其解决的技术方案是,包括浊度检测模块、信号转换模块、浊度判断模块、清洗驱动模块,其特征在于,浊度检测模块将检测的分离机浊度信号转换为电流信号,经信号转换模块转换为电压信号、放大后,进入浊度判断模块与洁净阈值电压进行比较,输出高低电平触发清洗驱动模块中双稳态触发器的工作状态,进而控制分离机的清洗状态或分离状态。
优选的,所述清洗驱动模块包括电容C7,电容C7的一端连接运放AR2的输出端,电容C7的另一端分别连接接地电阻R16的一端、接地电阻R17的一端、二极管D3的负极、二极管D4的正极,二极管D4的负极分别连接三极管Q1的基极、电阻R15的一端、电容C6的一端,电阻R15的另一端分别连接电容C6的另一端、电阻R14的一端、三极管Q2的集电极,二极管D3的正极分别连接三极管Q2的基极、电阻R13的一端、电容C5的一端,电阻R13的另一端分别连接电容C5的另一端、电阻R12的一端、三极管Q1的集电极,电阻R12的另一端和电阻R14的另一端连接电源+5V,三极管Q2的发射极连接光电耦合器U3的引脚1,光电耦合器U3的引脚2连接地,光电耦合器U3的引脚3通过电阻R18连接地,光电耦合器U3的引脚4连接三极管Q3的基极,三极管Q3的发射极连接地,三极管Q3的集电极分别连接电磁阀K1、K2、K3的一端及二极管D1的正极,电磁阀K1、K2、K3的另一端及二极管D1的负极连接电源+12V,三极管Q1的发射极连接光电耦合器U2的引脚1,光电耦合器U2的引脚2、引脚3连接地,光电耦合器U2的引脚4连接三极管Q4的基极、电阻R19的一端,三极管Q4的发射极和电阻R19的另一端连接电源+24V,三极管Q4的集电极分别连接电磁阀K4、K5及二极管D2的负极,电磁阀K4、K5的另一端及二极管D2的正极连接地。
本实用新型采用TS浊度传感器直接检测清洗液的污浊程度并转换为电流信号,避免了认为通过观察观察镜判断误判的发生,电流信号经转换为电压信号、放大后,与洁净阈值电压进行比较,输出高低电平触发三极管Q2、Q1组成的双稳态触发器的工作状态,进而控制串在三极管Q2 、Q1发射极的光电耦合器U3、U2状态,驱动相应的三极管Q3/Q4导通,进而自动控制分离机的清洗状态或分离状态。
附图说明
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