[实用新型]用于真空镀膜机的二维镀膜转架

说明书

本实用新型公开了一种用于真空镀膜机的二维镀膜转架，包括一维转动盘，一维转动盘上装有动力输入轴，沿一维转动盘的圆周装有多个转杆，每个转杆上固装有镀膜工件圆盘，与一维转动盘平行的圆环形盖板装在所述多个转杆的顶端，还包括有与一维转动盘平行且位于其下方的定齿盘，所述动力输入轴通过定齿盘轴承装于定齿盘的中心位置，动力输入轴的输入端伸至定齿盘的下方；多个所述转杆分别通过转杆轴承间隔均布装在一维转动盘的圆周上，每个转杆的顶端具有转杆轴，每个转杆以其顶端的转杆轴可转动地装在所述圆环形盖板上，每个转杆的底端固装有与所述定齿盘相啮合的底齿轮。应用本实用新型后对工件的镀膜效率较高、工件表面所镀膜层也相对均匀。

技术领域

本实用新型涉及一种用于真空镀膜机的镀膜转架，具体地说是涉及一种用于真空镀膜机的二维镀膜转架。

背景技术

现有技术中的真空镀膜机镀膜转架结构上主要包括有一维转动盘，一维转动盘的中心位置固装有动力输入轴，沿一维转动盘的圆周间隔均布装有多个转杆，每个转杆上固装有镀膜工件圆盘，沿镀膜工件圆盘的圆周间隔均布装有多个镀膜工件插筒，与一维转动盘平行的圆环形盖板装在所述多个转杆的顶端。

使用时，上述现有技术中镀膜工件插筒内安放好待镀膜工件，驱动所述动力输入轴，一维转动盘带动其上的转杆及设置在转杆顶端的圆环形盖板一起转动，实现对待镀膜工件的镀膜作业。

上述现有技术中的镀膜转架是整体转动，通过磁控溅射对插筒内的镀膜工件进行镀膜时，镀膜效率较低、工件表面所镀膜层不够均匀。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种用于真空镀膜机的二维镀膜转架，使用本实用新型镀膜时镀膜效率较高、工件表面所镀膜层相对均匀。

为解决上述技术问题，本实用新型用于真空镀膜机的二维镀膜转架，包括有一维转动盘，一维转动盘的中心位置固装有动力输入轴，沿一维转动盘的圆周间隔均布装有多个转杆，每个转杆上固装有镀膜工件圆盘，沿镀膜工件圆盘的圆周间隔均布装有多个镀膜工件插筒，与一维转动盘平行的圆环形盖板装在所述多个转杆的顶端，还包括有与所述一维转动盘平行且位于一维转动盘下方的定齿盘，定齿盘与一维转动盘的轴线位于同一直线上，所述动力输入轴通过定齿盘轴承装于定齿盘的中心位置，动力输入轴的输入端伸至定齿盘的下方；多个所述转杆分别通过转杆轴承间隔均布装在一维转动盘的圆周上，每个转杆的顶端具有转杆轴，每个转杆以其顶端的转杆轴可转动地装在所述圆环形盖板上，每个转杆的底端固装有与所述定齿盘相啮合的底齿轮。

采用上述结构的用于真空镀膜机的二维镀膜转架，由于还包括定齿盘，每个转杆底端固装有与定齿盘相啮合的底齿轮，并且转杆以其顶端的转杆轴可转动地装在所述圆环形盖板上，因此当驱动所述动力输入轴、一维转动盘转动时，与定齿盘相啮合的底齿轮也相应转动，底齿轮的转动会带动相应转杆的转动，进而装于转轩上的镀膜工件圆盘也相应转动，本实用新型镀膜架在整体转动时，所述镀膜工件圆盘同时作相对转动，因此较传统的一维转架，应用本实用新型后对工件的镀膜效率较高、工件表面所镀膜层也相对均匀。

附图说明

下面结合附图对本实用新型作进一步地详细说明。

图1是本实用新型用于真空镀膜机的二维镀膜转架的主剖视结构示意图，图中仅示出了沿定齿盘轴线对称的左右两侧装有镀膜工件圆盘的两个转杆。

图2是图1的俯视结构示意图。

图3是沿图1中A-A线的剖视结构示意图。

具体实施方式

参见图1－图3，本实用新型用于真空镀膜机的二维镀膜转架，包括有一维转动盘10，一维转动盘的中心位置固装有动力输入轴11，沿一维转动盘的圆周间隔均布装有多个转杆12，每个转杆上固装有镀膜工件圆盘20，沿镀膜工件圆盘20的圆周间隔均布装有多个镀膜工件插筒21，镀膜工件插筒用于安放镀膜工件，与一维转动盘平行的圆环形盖板30装在所述多个转杆12的顶端，还包括有与所述一维转动盘10平行且位于一维转动盘下方的定齿盘40，定齿盘与一维转动盘的轴线位于同一直线上，所述动力输入轴11通过定齿盘轴承41装于定齿盘40的中心位置，动力输入轴11的输入端伸至定齿盘的下方；多个所述转杆12分别通过转杆轴承13间隔均布装在一维转动盘的圆周上，每个转杆12的顶端具有转杆轴14，每个转杆12以其顶端的转杆轴14可转动地装在所述圆环形盖板30上，每个转杆12的底端固装有与所述定齿盘40相啮合的底齿轮15。