[实用新型]一种用于提高磁控溅射中靶利用率的装置

说明书

本实用新型创造提供了一种用于提高磁控溅射中靶利用率的装置，包括靶材基座、以及靶材基座上设置的磁力组件，所述靶材基座上设有用于设置磁力组件的装配槽；所述磁力组件包括装配槽底部间隔设置的数个磁芯、以及磁芯上水平设置的背板。本实用新型创造结构简单，成本低，还能在不改造整体设备的情况下，完善平面靶的利用空间，本实用新型创造还提高了平面靶靶材的利用率，完善靶材膜厚均匀性；通过在靶材基座上设置冷却组件，冷却组件可以大大降低装置整体的温度，有利于提高靶材的使用寿命；并且冷却组件还可以很好的支撑住背板，避免背板发生弯折，使背板可以始终稳定的支撑住靶材，进一步提高了靶材的使用寿命。

技术领域

本发明创造属于磁控溅射设备领域，尤其是涉及一种用于提高磁控溅射中靶利用率的装置。

背景技术

在现代大型磁控溅射设备中，靶材作为主要的耗材，利用率和溅射过程的稳定性是影响镀膜质量和成本的重要因素。LOW-E膜的制备银层起决定作用，且材料成本高，使用量大，目前在中国内地的磁控溅射设备中，银靶主要以平面银靶和旋转银靶为主，但是由于旋转银靶的不可控性较大，目前在几大LOW-E玻璃生产商中(南玻集团、耀皮集团、信义集团)，平面银靶依然是主导地位。平面靶的特点是结构简单，通用性强，重复性好，但现有的靶材基座的缺点是容易造成靶材的利用率低，一般约为25％左右，当辉光区，即磁力线分布区域的靶材消耗到一定程度时，将形成条形凹坑，靶材变薄，凹坑深度达到一定程度时，靶材就不能继续使用了，其他平面靶也存在利用率低的问题。由于平面银靶的以上特殊性，随着国家对LOW-E膜性能的不断提高，现阶段银靶的使用周期逐渐缩短，导致多数镀膜设备由于银靶提前使用完，被迫更换新银靶，但此时整体设备距离额定保养周期还有10天左右，严重影响公司效益；并且现有的靶材固定装置的散热性能普遍不佳，也极易影响靶材的使用寿命。

发明内容

有鉴于此，本发明创造旨在克服上述现有技术中存在的缺陷，提出一种用于提高磁控溅射中靶利用率的装置。

为达到上述目的，本发明创造的技术方案是这样实现的：

一种用于提高磁控溅射中靶利用率的装置，包括靶材基座、以及靶材基座上设置的磁力组件，所述靶材基座上设有用于设置磁力组件的装配槽；所述磁力组件包括装配槽底部间隔设置的数个磁芯、以及磁芯上水平设置的背板；所述背板的顶部设有导磁金属垫片、底部设有冷却组件，相邻两磁芯之间均设有用于设置冷却组件的间隙；所述冷却组件包括背板底部的导热板、以及导热板底部的冷却管；所述装配槽底部的靶材基座上设有用于支撑冷却管的支撑板，支撑板上设有若干过气孔。

进一步的，所述支撑板上设有若干冷却翅片。

进一步的，所述导热板、冷却管以及支撑板均采用非导磁金属材料。

进一步的，所述导磁金属垫片采用铁质垫片。

进一步的，所述导热板上设有用于容纳冷却管的凹槽。

进一步的，所述磁芯并排排列，磁芯均采用单极磁芯。

进一步的，所述磁芯的排布方式为NSNSNS或SNSNSN。

相对于现有技术，本发明创造具有以下优势：

本发明创造结构简单，成本低，还能在不改造整体设备的情况下，完善平面靶的利用空间，本发明创造还提高了平面靶靶材的利用率，有利于完善靶材膜厚均匀性；通过在靶材基座上设置冷却组件，冷却组件可以大大降低装置整体的温度，有利于提高靶材的使用寿命；并且冷却组件还可以很好的支撑住背板，避免背板发生弯折，使背板可以始终稳定的支撑住靶材，进一步提高了靶材的使用寿命。

附图说明

构成本发明创造的一部分的附图用来提供对本发明创造的进一步理解，本发明创造的示意性实施例及其说明用于解释本发明创造，并不构成对本发明创造的不当限定。在附图中：

图1为本发明创造的结构示意图。