[实用新型]一种磁控溅射过程中稳定传输基片载具的装置

说明书

本实用新型公开了一种磁控溅射过程中稳定传输基片载具的装置，包括：腔体、设在腔体底部的传动机构、滚动设置在传动机构上的载具、设在载具一侧的永磁体、设在载具一侧且与永磁体不同侧的靶材；所述载具包括：载物板、设在载物板上的侧滑轨、固定在腔体顶部且与所述侧滑轨配合的若干个第一传动轮；通过采用该装置，避免了载物板因移动中左右晃动，实现所述载具的稳定传输，从而避免基片上沉积的膜厚度明显变化不均匀，不影响基片的正常生产效率的同时，提高了基片的生产质量，增强了生产效益。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射设备技术领域，特别是涉及一种磁控溅射过程中稳定传输基片载具的装置。

背景技术

在薄膜太阳能电池制造工艺过程中，PVD沉积技术中的真空磁控溅射设备分为卧式和立式两种基本类型，卧式磁控溅射设备是指基片从进入到出来的整个过程中平铺放置，不需要夹取装和翻转机构而完成镀膜沉积的设备，立式磁控溅射设备是指基片通过翻转机构立起来，依靠载具机构或夹取装置进行运输的设备。卧式磁控溅射设备的传输结构简单、维护方便、但是受结构本身限制，靶材上面存在的杂质易掉落在基片上面造成膜层缺陷；立式磁控溅射设备则不存在杂质掉落的缺陷。

通常，立式磁控溅射设备中运输基板不用载具的传输方式就需要夹取装置，而采用夹取装置用于传输结构复杂，一旦发生故障需要检修费时费力，故目前玻璃基板传输的过程一般采用载具载玻璃，采用载具运输玻璃基片的方法中有多种，其中最为常用的一种是：玻璃基片在进口前先通过翻转机构将玻璃翻转至基片载具上的沟槽上，基片载具直接与伺服电机或异步电机带动的不锈钢滚轮接触前进(或后退)。

目前存在的玻璃基片的载具，该结构的载具在前进过程中会出现明显的左右晃动，该晃动在非制程腔室中前进时，基本不影响镀膜工艺，可以不予考虑其影响，但在制程腔室中，靶基距(镀膜使用材料靶材距离基板的位置)一定，基片在通过制程腔室时，基片载具明显的左右晃动，会使靶基距变化产生很大变化，基片上沉积成膜厚度随之明显变化，甚至会超出标准范围，导致成膜的厚度不均匀，为不合格的成品，并且，如果工艺需求需要加热基板，则加热过程中由于明显晃动造成的碎片率也较高。

实用新型内容

本实用新型旨在提供一种磁控溅射过程中稳定传输基片载具的装置，以解决现有技术中存在的基片在通过制程腔室时，基片载具明显的左右晃动，会使靶基距变化产生很大变化，基片上沉积成膜厚度随之明显变化，甚至会超出标准范围，导致成膜的厚度不均匀，为不合格的成品，基片碎片率较高的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：提供一种磁控溅射过程中稳定传输基片载具的装置，包括：腔体、设在腔体底部的传动机构、滚动设置在传动机构上的载具、设在载具一侧的永磁体、设在载具一侧且与永磁体不同侧的靶材；所述载具包括：载物板、设在载物板上的侧滑轨、固定在腔体顶部且与所述侧滑轨配合的若干个第一传动轮；所述传动机构包括：固定在所述腔体底部的轴承、与轴承连接的转轴、固定在转轴一端的第二传动轮和另一端的双向皮带轮、驱动连接于所述皮带轮的驱动电机；所述载物板的底部开设有与第二传动轮配合的下滑轨；所述载物板靠近所述靶材的一侧开设有用于承载基片(为便于描述，图1中所示基片为上部截断的部分，实际使用中基片应是与载物槽大小相当)的载物槽；所述载物槽的边缘上设有弹簧夹；所述载具与永磁体之间设有固定在腔体顶部的防护板。

进一步地，所述永磁体的外部铺设有冷却水管。

进一步地，所述第二传动轮为凹型滚轮。

进一步地，所述下滑轨为U型滑轨。

进一步地，所述第一传动轮为凸型滚轮，所述侧滑轨为C型滑轨。

进一步地，所述弹簧夹上粘接有防刮垫片。

进一步地，所述永磁体的材质为钐钴永磁体。

进一步地，所述永磁体为长条形且与所述载物板平行；所述永磁体与侧滑轨的间距小于或等于50mm。