[实用新型]一种TFT-LCD玻璃面研磨装置

说明书

本实用新型涉及一种TFT‑LCD玻璃面研磨装置，其特征在于：增为三组研磨机，每组研磨机采用多头研磨盘，其中研磨机由研磨机台、吸附垫、研磨垫、研磨磨盘组成；研磨磨盘和磨盘轴承为不锈钢或铁材质，研磨垫采用PP发泡材质中加入氧化铈研磨粉，研磨垫的A硬度为20‑90，研磨粉的粒度为6μm以下。本实用新型的优点：（1）采用多组研磨机台，研磨深度大；（2）采用多头研磨磨盘，提高研磨效率；（3）可单独对每个磨盘进行精准调整，保证研磨精度。

技术领域

本实用新型属玻璃制备领域，涉及TFT-LCD玻璃制备领域，具体涉及一种TFT-LCD玻璃面研磨装置。

背景技术

在浮法TFT-LCD玻璃生产过程中，玻璃液在锡槽下表面即锡面（锡槽中含有微量氧、锡槽温度1100℃以上），锡极易与氧发生反应（见图1），高温下所生成的氧化锡、氧化亚锡的结构和性质发生了变化，与玻璃存在离子交换和扩散过程。TFT-LCD玻璃主要成分二氧化硅高温熔化后，形成氧离子多面体（三角体和四面体），多面体间顶角相连形成三维空间连续的网络（无序排列），在硅氧键形成的网状结构中R离子嵌在中间（见图2）。对于钠钙玻璃，R离子一般是钠离子、钾离子、钙离子等。根据TFT-LCD玻璃的结构图，Sn²⁺、Sn⁴⁺会渗透到玻璃中，在玻璃锡面形成渗锡层（20-40μm）。TFT-LCD玻璃用于液晶面板显示，在显示过程中，通电使液晶进行旋转形成显示画面，若玻璃表面聚集有活跃的金属离子（如渗锡层），通电的状态下金属离子跑到线路中造成电极短路，故需要将TFT-LCD玻璃锡面的渗锡层去掉。

同时由于TFT-LCD玻璃的锡面与锡槽接触，锡面会有微小凹凸或波纹（即玻璃的粗造度），最大粗造度可达5μm，而TFT-LCD玻璃用于液晶显示面板，要求TFT-LCD玻璃的粗造度小于0.05μm，故需要将TFT-LCD玻璃的锡面进行面研磨，除去渗锡层和粗造度，满足生产要求。

通常采用研磨的方法去除玻璃的渗锡层和表面粗糙度（碱金属离子含量小于0.1%以下），但现有玻璃研磨工艺多采用单台研磨机进行一次性研磨，在需要研磨深度较多的情况下，需要增加研磨时间（如：研磨6μm，需要研磨1200s），这大大限制了研磨的效率。专利号公开号为CN102653074A《玻璃板的研磨方法》中采用研磨工具研磨玻璃板，将高度为 0.3μm以下的波纹而使其降低至 0.05μm 以下，从而制造平板显示器用玻璃基板。但其研磨量非常小，不适用于粗造度达到5μm和含有渗锡层（20-40μm）的玻璃进行研磨。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了有效去除浮法TFT-LCD玻璃的渗锡层（20-40μm）和粗造度（约5μm），提供了一种TFT-LCD玻璃面研磨装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：

一种TFT-LCD玻璃面研磨装置，其特征在于：由原有的单台研磨机增为三组研磨机，每组研磨机采用多头研磨盘，其中研磨机由研磨机台、吸附垫、研磨垫、研磨磨盘组成；研磨磨盘和磨盘轴承为不锈钢或铁材质，研磨垫采用PP发泡材质中加入氧化铈研磨粉，研磨垫的（邵氏硬度）A硬度为20-90，氧化铈研磨粉的粒度为6μm以下。

进一步，每个研磨机至少采用2个研磨磨头。

进一步，每组研磨机的数量至少为1台，可根据研磨的磨削量进行调整。

一种TFT-LCD玻璃面研磨方法，选用TFT-LCD基板玻璃，其特征在于包括以下步骤：

1.粗磨：采用研磨垫的（邵氏硬度）A硬度为60-90，研磨粉粒度为3-6μm，研磨液（氧化铈和去离子水的混合物）浓度为60-90%、PH值控制在7-8，调节研磨盘的研磨压力0.7-0.5MPa和旋转速度小于60r/min，研磨磨盘按照上、下、左、右的轨迹进行研磨，使整块玻璃的表面无死角，均匀研磨，磨削量为20-30μm，使玻璃的粗造度控制在10μm以内；