[实用新型]一种电磁屏蔽罩有效

专利信息
申请号: 201920487613.0 申请日: 2019-04-11
公开(公告)号: CN209994787U 公开(公告)日: 2020-01-24
发明(设计)人: 疏达;李远;杨野 申请(专利权)人: 北醒(北京)光子科技有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100085 北京市海*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 透明基片 镀膜 导电屏蔽膜 电磁屏蔽罩 光电器件 滤光膜层 屏蔽效果 反射光 接收光 屏蔽 上盖 申请 金属网状结构 传统屏蔽 单独设置 电磁干扰 封闭腔体 合为一体 减小信号 屏蔽罩 衰减率 光路
【说明书】:

本申请涉及电磁干扰的屏蔽,尤其涉及一种电磁屏蔽罩。本申请电磁屏蔽罩,其接收光一面上开设有窗口,窗口上盖有镀膜的透明基片,所述的镀膜包括滤光膜层、导电屏蔽膜层,滤光膜层、导电屏蔽膜层镀在同一透明基片上或单独设置在两片透明基片上,再合为一体。本申请通过在屏蔽罩接收光一面上开设窗口,窗口上盖有镀膜的透明基片,反射光经过透明基片进入光电器件,使光电器件接收到足够强度的反射光,同时镀膜的透明基片也具有屏蔽效果,能够满足屏蔽要求。相比于传统屏蔽方式,该方式以镀膜的透明基片代替光路中的金属网状结构,形成完整封闭腔体,能拥有更好的屏蔽效果,且减小信号光的衰减率。

技术领域

实用新型申请涉及电磁干扰(EMI)的屏蔽,尤其涉及一种电磁屏蔽罩。

背景技术

光电器件是光学雷达的重要组件,用于接收光信号并将光信号转换为可处理的电信号。这些接收器件通常具有灵敏的响应阈值和响应速度,因而极易受环境因素干扰,其中环境光和电磁干扰是影响接收器件性能的重要因素。

为解决上述问题,本领域技术人员通常同时使用滤光片和屏蔽罩,如图1所示,用滤光片10降低环境光带来的干扰,用电磁屏蔽罩降低电磁干扰,屏蔽罩9一般具有金属网格8,用于通过光,确保雷达在复杂环境下的测量性能的同时保证光的通过。但同时采用滤光片、屏蔽罩会带来复杂的装配工艺和较大的信号光衰减。为了减小信号光衰减率,就必须在屏蔽效果和光衰中进行合理的让步,调整屏蔽罩网格结构的目数,很可能出现电磁屏蔽效果一般且光衰仍较严重的现象。同时,屏蔽罩的加工工艺也会带来光衰和屏蔽性能的一致性问题,带来样机差异,提高不良率概率。

实用新型内容

本申请实施例在于提出一种电磁屏蔽罩,解决现有屏蔽罩不能同时满足光学元件的透光率和屏蔽效果的问题。

为达此目的,本实用新型申请实施例采用以下技术方案:

一方面,一种电磁屏蔽罩,其接收光一面上开设有窗口,窗口上盖有镀膜的透明基片,所述的镀膜包括滤光膜层、导电屏蔽膜层,滤光膜层、导电屏蔽膜层镀在同一透明基片上或单独设置在两片透明基片上,再合为一体。

在一种可能的实现方式中,所述的透明基片为玻璃基片或透明树脂基片,其单面或双面镀滤光膜层。

在一种可能的实现方式中,所述的透明基片在单面镀有滤光膜层时,所述的导电屏蔽膜层复合在透明基片未镀滤光膜层一侧或单独设置在另一透明基片上。

在一种可能的实现方式中,所述的透明基片在双面镀有滤光膜层时,所述的导电屏蔽膜层复合在透明基片任一侧或单独设置在另一透明基片上。

在一种可能的实现方式中,所述的滤光膜层、导电屏蔽膜单独设置在两片透明基片上时,两片透明基片通过胶粘层粘接。

在一种可能的实现方式中,所述的导电屏蔽膜层为导电氧化材料薄膜层,所述的导电氧化材料为氧化锌、掺氟二氧化锡或氧化铟锡。

在一种可能的实现方式中,所述导电屏蔽膜层的可见光透过率为80-95%,红外光透过率60-80%,导电方阻3-10Ω。

在一种可能的实现方式中,所述导电屏蔽膜层的可见光透过率为90-95%,红外光透过率70-80%,导电方阻3-5Ω。

在一种可能的实现方式中,所述的滤光膜层带宽范围为雷达信号光波长范围,所述的透明基片厚度为0.3-10mm。

在一种可能的实现方式中,所述的镀膜的透明基片与屏蔽罩窗口之间通过螺接或卡接或粘接在一起。

本申请实施例通过在屏蔽罩接收光一面上开设窗口,窗口上盖有镀膜的透明基片,反射光经过透明基片进入光电器件,使光电器件接收到足够强度的反射光,同时镀膜的透明基片也具有屏蔽效果,能够满足屏蔽要求。相比于传统屏蔽方式,该方式以镀膜的透明基片代替光路中的金属网状结构,形成完整封闭腔体,能拥有更好的屏蔽效果,且减小信号光的衰减率。

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