[实用新型]一种磁材双面镀膜装置

说明书

本实用新型涉及磁材加工设备技术领域，且公开了一种磁材双面镀膜装置，包括入片料架，所述入片料架的一侧设有进片室，所述进片室的一侧设有进过渡室，所述进过渡室的一侧设有进缓冲室，所述进缓冲室的一侧设有镀膜室，所述镀膜室的一侧设有出缓冲室。该磁材双面镀膜装置，通过套装在液压杆内的套杆以及弹簧的配合，在利用夹块夹紧磁材时，进行缓冲，从而将夹块与磁材的刚性挤压转变为弹性挤压，避免磁材被损伤，利用通过轴与连接架活动连接的托板，当传送带将托板从其上方转动至下方时，托板通过轴始终保持水平状态，不会随连接架发生转动，从而避免放料槽中的磁材在翻面后利用传送带输送回入片料架过程中发生掉落。

技术领域

本实用新型涉及磁材加工设备技术领域，具体为一种磁材双面镀膜装置。

背景技术

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行镀膜的设备，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜，对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

然而，现有的磁材双面镀膜装置通常在磁材的单面进行镀膜处理后，单面镀膜的磁材通过出片料架出料后，利用独立设置的翻片装置对磁材进行翻面，再利用输送装置将翻面的磁材重新输送至入片料架上，从而对磁材的另一面进行镀膜，这种方式，不仅延长了磁材镀膜的生产线，占用了大量的空间，同时也降低了磁材镀膜的效率，设备复杂且成本较高。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种磁材双面镀膜装置，具备节省空间、提高镀膜效率的优点，解决了现有的磁材双面镀膜装置通常在磁材的单面进行镀膜处理后，单面镀膜的磁材通过出片料架出料后，利用独立设置的翻片装置对磁材进行翻面，再利用输送装置将翻面的磁材重新输送至入片料架上，从而对磁材的另一面进行镀膜，这种方式，不仅延长了磁材镀膜的生产线，占用了大量的空间，同时也降低了磁材镀膜的效率，设备复杂且成本较高的问题。

本实用新型提供如下技术方案：一种磁材双面镀膜装置，包括入片料架，所述入片料架的一侧设有进片室，所述进片室的一侧设有进过渡室，所述进过渡室的一侧设有进缓冲室，所述进缓冲室的一侧设有镀膜室，所述镀膜室的一侧设有出缓冲室，所述出缓冲室的一侧设有出过滤室，所述出过滤室的一侧设有出片室，所述出片室的一侧设有出片料架，且出片室的下方设有位于入片料架与出片料架之间的传送带，所述传送带的顶部设有连接架，所述连接架通过轴活动连接有托板，所述托板底部的一侧固定安装有推进气缸，所述推进气缸的顶部活动套装有活塞杆，所述托板内腔的底部固定安装有位于活塞杆一侧的伸缩杆，且托板顶端的中部开设有放料槽，所述伸缩杆的顶部固定连接有放料板，所述托板的顶部固定安装有位于放料槽一侧的固定架，且托板的顶部固定安装有位于放料槽另一侧的夹紧装置。

优选的，所述固定架侧面的顶部固定安装有旋转气缸，所述旋转气缸的输出端上固定连接有液压杆，所述液压杆的一端活动套装有套杆，所述套杆上活动套装有弹簧，且套杆的一端固定连接有夹块。

优选的，所述弹簧的一端与液压杆的一端固定连接，且弹簧的另一端与夹块的侧面固定连接。

优选的，所述放料板底部的一侧与活塞杆的一端固定连接，且放料板与放料槽活动套接。

优选的，所述夹紧装置由另一组固定架、旋转气缸、液压杆、套杆、弹簧、夹块组成。

与现有技术对比，本实用新型具备以下有益效果：