[实用新型]一种镀膜设备用水冷板有效
申请号: | 201920393117.9 | 申请日: | 2019-03-27 |
公开(公告)号: | CN209702844U | 公开(公告)日: | 2019-11-29 |
发明(设计)人: | 臧龙杰 | 申请(专利权)人: | 昆山世高新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/32 |
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地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水冷管 水冷 弯折 本实用新型 靶材背板 镀膜设备 用水冷板 连续S形 进水口 进水口连接 一字型布置 间隔均匀 口径控制 出水口 镀膜 路弯 | ||
本实用新型提供一种镀膜设备用水冷板,包括进水口连接装置、进水口、靶材背板、第二水冷管以及第三水冷管;所述靶材背板内设置有第一水冷区、第二水冷区以及第三水冷区,所述第一冷水区内设置有第一水冷管,所述第一水冷管呈连续S形弯折布置,且管路之间间隔均匀,所述第二水冷管也呈连续S形弯折布置,所述第二水冷管管路弯折少于第一水冷管的管道弯折数,且第二水冷管排列中间间距大于两侧间距,所述第三水冷管呈一字型布置,所述进水口通过管路与出水口相连接。本实用新型一种镀膜设备用水冷板,结构简便,为一体式,水冷效果均匀,并可通过水流速度,水冷口径控制降温速度,提高镀膜速率。
技术领域
本实用新型涉及镀膜设备领域,尤其涉及一种镀膜设备用水冷板。
背景技术
镀膜设备靶材降温快速冷却需要使用水冷板,镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当的工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单的说,靶材就是高速核能粒子轰击的目标材料,更换不同的靶材,就可以得到不同的膜系。
传统国内镀膜靶材水冷为镶嵌式水冷,即水冷和靶材背板不为一体,工序繁杂,生产操作量大,水冷效果差。
实用新型内容
实用新型目的:提供一种镀膜设备用水冷板,结构简便,为一体式,水冷效果均匀,并可通过水流速度,水冷口径控制降温速度,提高镀膜速率。
一种镀膜设备用水冷板,包括进水口连接装置、进水口、靶材背板、第二水冷管以及第三水冷管;所述靶材背板内设置有第一水冷区、第二水冷区以及第三水冷区,所述第一冷水区内设置有第一水冷管,所述第一水冷管呈连续S形弯折布置,且管路之间间隔均匀,所述第二水冷管也呈连续S形弯折布置,所述第二水冷管管路弯折少于第一水冷管的管道弯折数,且第二水冷管排列中间间距大于两侧间距,所述第三水冷管呈一字型布置,所述进水口通过管路与出水口相连接。
进一步的,所述进水口连接装置与进水口位置相对应,所述第一水冷区、第二水冷区以及第三水冷区分别通过焊接隔开。
进一步的,所述第二水冷管位于第二水冷区内,所述第三水冷管位于第三水冷区内。
进一步的,所述第二水冷区的长度大于第一水冷区以及第三水冷区的长度。
进一步的,所述靶材背板长度方向所在直线的两端中间部位设置有定位孔。
进一步的,所述进水口以及出水口四周均设置有连接孔,所述第三水冷管设置在靠近第二水冷区的一侧。
本实用新型实现以下有益效果:
一种镀膜设备用水冷板,结构简便,结构为一体式,水冷效果均匀,并可通过水流速度,水冷口径控制降温速度,提高镀膜速率,改良过后的水冷板整体重量下降,更容易操作,降低企业的生产成本。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本公开的实施例,并与说明书一起用于解释本公开的原理。
图1为一种镀膜设备用水冷板整体结构示意图。
图中:1.进水口连接装置;2.靶材背板;3.定位孔;4.进水口;5.出水口;6.第一水冷区;7.第二水冷区;8.第三水冷区;9.第一水冷管;10.第二水冷管;11.第三水冷管;12.连接孔。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
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