[实用新型]一种抛光垫的清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种抛光垫的清洗装置，包括清洗盘、引流管和若干个刷头，所述清洗盘的内部设有空腔，其顶表面设有内凹槽，所述内凹槽的横截面呈圆形，且所述内凹槽的直径r大于抛光机上盘的直径R，内凹槽的深度h小于或者等于抛光机上盘的厚度H；所述清洗盘顶表面上远离凹槽处或者侧壁上还设有与所述空腔连通的进水孔；所述清洗盘的底表面上设有若干个与所述空腔相连通的出水孔；所述引流管的一端与所述清洗盘顶表面上的进水孔相连通，另一端用于连接水源；所有刷头均设于所述清洗盘的底表面上，且垂直于所述清洗盘的底表面设置。本实用新型避免了人工操作的不可控性，大大提高了清洗抛光垫的效率，而且节约用水。

技术领域

本实用新型属于领域，具体涉及一种抛光垫的清洗装置。

背景技术

化学机械抛光技术综合了化学抛光和机械抛光的优势，其应用领域非常广泛，包括蓝宝石晶片，硅片，玻璃，不锈钢，铝合金，以及其它半导体晶片的研磨与抛光。化学机械抛光通常是用抛光机配合抛光垫和抛光液使用，每次抛光结束后为了保证下一次抛光的抛光速率和表面质量，要对抛光机上的抛光垫进行清洗。目前多数由人工使用毛刷手工刷洗，刷洗过程用水量大，费时费力，还不能确保刷洗干净。在连续化生产过程中，洗盘的时间影响了生产效率，盘面是否清洗干净也会对抛光效果产生影响。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型提出了一种抛光垫的清洗装置，用于解决现有技术中手工清洗抛光垫效率低的缺点。

实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型通过以下技术方案实现：

一种抛光垫的清洗装置，包括：

清洗盘，所述清洗盘的内部设有空腔，其顶表面设有内凹槽，所述内凹槽的横截面呈圆形，且所述内凹槽的直径r大于抛光机上盘的直径R，内凹槽的深度h小于或者等于抛光机上盘的厚度H；所述清洗盘顶表面上远离凹槽处或者侧壁上还设有与所述空腔连通的进水孔；所述清洗盘的底表面上设有若干个与所述空腔相连通的出水孔；

引流管，所述引流管的一端与所述清洗盘顶表面上的进水孔相连通，另一端用于连接水源；

若干个刷头，各刷头均设于所述清洗盘的底表面上，且垂直于所述清洗盘的底表面设置。

作为本实用新型的进一步改进，所述抛光机上盘的直径R与内凹槽的直径r相差2-3mm。

作为本实用新型的进一步改进，所述内凹槽的深度h与抛光机上盘的厚度H之间的关系为H/2<h<H。

作为本实用新型的进一步改进，所述刷头和出水孔均匀布置在所述清洗盘的底表面。

作为本实用新型的进一步改进，所述刷头的分布密度为8-20/dm²，相邻刷头之间设有一个出水孔，所述出水孔的分布密度与刷头的分布密度相同。

作为本实用新型的进一步改进，所述刷头上刷毛的材质为塑料、动物毛或者海绵中的任意一种。

作为本实用新型的进一步改进，所述清洗盘的横截面呈圆形，且清洗盘的直径大于或者等于抛光机下盘半径。

作为本实用新型的进一步改进，所述清洗盘的材质为塑料、木材或者金属。

作为本实用新型的进一步改进，所述清洗盘的材料为HDPE、PC或者PP材质。

作为本实用新型的进一步改进，所述空腔的体积大于或者等于清洗盘体积的1/3。

本实用新型的有益效果：