[实用新型]一种曝光用激光换能吸收结构

说明书

本实用新型公开了一种曝光用激光换能吸收结构，其特征在于：包括转运平台、曝光组件和至少一组吸收组件，所述曝光组件设置在所述转运平台上方，所述吸收组件相对设置在所述曝光组件的底部，所述吸收组件包括基板和敷设在所述的基板底部吸光层，所述基板与所述曝光组件连接。本实用新型通过曝光组件对转运平台上的电路板曝光的过程当中，电路板产生反光，反光反射到吸收组件，吸收组件吸收波长较短的电磁波，反射波长较长的电磁波，被反射的电磁波对转运平台上的电路板不起作用，如此减少曝光过程当中，紫外线的反射，有利于电路板曝光工艺的准确。

技术领域

本实用新型涉及线路板曝光工艺领域，具体涉及一种曝光用激光换能吸收结构及蚀刻机

背景技术

线路板的曝光工艺，是将电路图投影到基板上的工艺(激光DMD投影)，基板干膜被UV激光照射，发生聚合反应，其物理和化学性质产生变化，更容易被清理掉，如此区分出有效的导电区域，在显影和蚀刻、去膜等工艺的配合下，得到最终的印刷电路板基板。

为了保证曝光的准确定，曝光所需的UV激光，通常通过平行光的形式，倾斜射入基板上，防止因为光线倾斜，在曝光工艺的进行过程当中，因为UV激光的强度较大，曝光机的曝光单元距离电路板基板很近，造成UV激光在基板和曝光单元之间不规则的反射，导致曝光工艺的不精确。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供了一种激光换能吸收结构，其可克服上缺陷，有效防止UV激光的反射。

为实现上述目的，本实用新型所采取的技术方案是：

一种曝光用激光换能吸收结构，其特征在于：包括转运平台、曝光组件和至少一组吸收组件，所述曝光组件设置在所述转运平台上方，所述吸收组件相对设置在所述曝光组件的底部，所述吸收组件包括基板和敷设在所述的基板底部吸光层，所述基板与所述曝光组件连接。

进一步地，所述吸光层包括荧光粉层和敷设在荧光粉层上的粘合剂，所述荧光粉层通过混合的粘合剂敷设在所述基板底部。

进一步地，所述吸光层还包括隔离层，所述隔离层设置在所述荧光粉层的外侧。

进一步地，所述吸收组件设置有多组，多组所述吸收组件之间设置有收纳曝光组件的空位。

进一步地，所述曝光组件的照射方向垂直于所述的转运平台。

进一步地，还包括支架，所述基板通过所述支架与所述曝光组件固定连接。

采用上述技术方案后，曝光组件对转运平台上的电路板曝光的过程当中，电路板产生反光，反光反射到吸收组件，吸收组件吸收波长较短的UV激光，反射波长较长的红光，被反射的红光对转运平台上的电路板不起作用，如此减少曝光过程当中，UV激光的反射，有利于电路板曝光工艺的准确。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图。

图2是本实用新型曝光组件、支架和吸收组件的装配结构示意图。

图3是本实用新型吸收组件的结构示意图。

附图标记说明：

1——转运平台、2——曝光组件、3——吸收组件、31——基板、32——吸光层、321——荧光粉层、322——隔离层、4——支架、A——空位。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步详细的说明。

如图1所示，其公开了一种曝光用激光换能吸收结构，包括转运平台1、曝光组件2、吸收组件3及支架4，其中：