[实用新型]一种圆底烧瓶的支撑架

说明书

一种圆底烧瓶的支撑架,涉及化学器材领域。现有的圆底的烧瓶支撑架存在不能直接摇晃烧瓶和任意改变圆底的烧瓶的角度的问题。圆底烧瓶支撑架包括支撑座、压缩腔体、排气阀和底盘，支撑座的上端面向内凹陷并设置成圆弧形的容置槽，容置槽的底部中心位置开有一圆孔，支撑座的下端与压缩腔体的上端固定连接，压缩腔体的下端固定连接在底盘上表面的中心位置，压缩腔体的靠近下设置有一出气管，出气管的管道上设置有一个排气阀，其中圆孔与压缩腔体的内部腔体相通。本实用新型用于圆底烧瓶的支撑。

技术领域

本实用新型涉及化学器材领域，尤其涉及一种圆底烧瓶的支撑架。

背景技术

圆底烧瓶为底部呈球状的透明玻璃烧瓶，是一种化学实验中常用的加热与反应的容器，用途广泛。常见的圆底的烧瓶有单颈圆底烧瓶、三颈圆底烧瓶和四颈圆底烧瓶，一般圆底的烧瓶通过支撑架夹持瓶颈进行支撑，其中存在三个问题，一是：在向烧瓶中注入反应液后，想要均匀混合烧瓶中的反应液，需要将烧瓶从支撑架上的夹持件上取下，进行摇晃，然后再夹在夹持件上，操作不方便；二是：现有的支撑架用于支撑单颈圆底烧瓶仅能保持单颈圆底烧瓶处于竖直方向，对于三颈圆底烧瓶或四颈圆底烧瓶来说，倾斜的方向仅能通过夹持不同的瓶颈来实现，倾斜角度无法任意改变，需要更换不同的支撑架，达到所需烧瓶的倾斜角度，操作不方便，不利于实验的操作；三是：一般化学实验器材的清洗都不再采用人工清洗，而是采用机械自动清洗，在清洗过程中通过电机带动清洁刷伸入烧瓶中转动实现清洗过程，利用现有的支撑架用于支撑烧瓶，支撑架体积大，占用空间，并且现有的支撑架均为铁质，容易上锈，对于三颈圆底烧瓶和四颈圆底烧瓶的其他瓶颈不方便清洗；因此急需一种能支撑多种圆底的烧瓶并可随意改变圆底烧瓶倾斜角度的支撑架。

实用新型内容

本实用新型需要解决的技术问题是：现有的圆底的烧瓶支撑架存在不能直接摇晃烧瓶和任意改变圆底的烧瓶的角度的问题，进而提供一种圆底烧瓶支撑架。

本实用新型为解决上述技术问题采用的技术方案是：所述的圆底烧瓶支撑架包括支撑座、压缩腔体、排气阀和底盘，所述支撑座的上端面向内凹陷并设置成圆弧形的容置槽，容置槽的底部中心位置开有一圆孔，支撑座的下端与压缩腔体的上端固定连接，压缩腔体的下端固定连接在底盘上表面的中心位置，压缩腔体的靠近下设置有一出气管，出气管的管道上设置有一个排气阀，其中圆孔与压缩腔体的内部腔体相通。

进一步的，所述的圆底烧瓶支撑架还包括一根压缩弹簧，压缩弹簧套在压缩腔体的外面，且压缩弹簧的一端固定连接在支撑座的外侧壁上，压缩弹簧的另一端固定连接在底盘的上表面上。

进一步的，所述的圆底烧瓶支撑架还包括一个转盘，所述转盘包括圆槽形底座、推力滚针轴承和内齿轮，推力滚针轴承的下轴承盖固定安装在圆槽形底座槽底中心位置，内齿轮固定安装在推力滚针轴承的上轴承盖的上表面上；所述的底盘下表面中心位置开有一圆槽，圆槽底部的中心位置带有一个齿轮，齿轮的高度小于或者等于圆槽的深度，齿轮的外齿与内齿轮的内齿相啮合，底盘的直径小于圆槽形底座的内径，且推力滚针轴承的外径小于圆槽的内径。

进一步的，所述的底盘的上表面带有多个凸起，多个凸起周向均匀布置在底盘的上表面上。

进一步的，所述的容置槽的材质为硅橡胶。

进一步的，所述的容置槽的圆弧面与圆底烧瓶的瓶体弧面相同。

本实用新型的有益效果是：

1、将圆底烧瓶置于支撑座上的容置槽上，向下按压圆底烧瓶，将压缩腔体内的空气通过出气管排出，关闭排气阀，支撑架内的空气被排出，压强小于外界大气压，圆底烧瓶被紧紧地吸附在容置槽上；圆底的烧瓶可竖直地放置在容置槽上，也可倾斜地放置在容置槽上，根据情况调整圆底烧瓶放置的角度；