[实用新型]一种卷绕式真空镀膜机有效
申请号: | 201920192140.1 | 申请日: | 2019-02-12 |
公开(公告)号: | CN209619441U | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
发明(设计)人: | 李正平;李成林 | 申请(专利权)人: | 浙江德佑新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56;C23C14/58 |
代理公司: | 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11613 | 代理人: | 韩国胜 |
地址: | 314000 浙江省嘉兴市经济技术开发区*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜室 镀膜 卷绕式真空镀膜机 本实用新型 再处理系统 镀膜辊 镀膜箱 再处理 薄膜 溅射镀膜工艺 真空镀膜技术 蒸发镀膜工艺 室内 真空镀膜机 真空热处理 表面形貌 复合薄膜 工作流程 加速薄膜 冷却处理 制备工艺 磁控靶 放卷辊 可改变 收卷辊 展平辊 蒸发源 制备 成型 隔离 优化 | ||
1.一种卷绕式真空镀膜机,其特征在于:
该真空镀膜机包括有再处理箱(1)及镀膜箱,再处理箱(1)包括放卷辊(2)、收卷辊(9)和再处理系统,所述再处理系统包括有多个展平辊(5)及温度控制辊,所述温度控制辊分别为第一温度控制辊(4)、第二温度控制辊(6)和第三温度控制辊(7);所述镀膜箱包括镀膜室,镀膜室包括第一镀膜室(21)、第二镀膜室(14)和第三镀膜室(10)。
2.根据权利要求1所述的卷绕式真空镀膜机,其特征在于:
所述第一镀膜室(21)中包括第一镀膜辊(20)和第一镀膜室磁控靶(19),所述第一镀膜室磁控靶(19)设置在所述第一镀膜辊(20)正下方位置。
3.根据权利要求2所述的卷绕式真空镀膜机,其特征在于:
所述第二镀膜室(14)中包括第二镀膜辊(17)和蒸发源(16),所述蒸发源(16)设置在所述第二镀膜辊(17)正下方位置。
4.根据权利要求3所述的卷绕式真空镀膜机,其特征在于:
所述第三镀膜室(10)中包括第三镀膜辊(13)和第三镀膜室磁控靶(11),所述第三镀膜室磁控靶(11)设置在所述第三镀膜辊(13)正下方位置。
5.根据权利要求4所述的卷绕式真空镀膜机,其特征在于:
所述再处理箱(1)与镀膜箱之间设置有隔板(22),所述第一镀膜辊(20)、第二镀膜辊(17)和第三镀膜辊(13)设置在隔板(22)上,各镀膜辊与隔板(22)的连接位置处存在间隙,间隙宽度为1-3mm。
6.根据权利要求1所述的卷绕式真空镀膜机,其特征在于:
所述再处理箱(1)中还设置有两个传感器辊,分别为第一传感器辊(3)和第二传感器辊(8),所述第一传感器辊(3)放置在放卷辊(2)的下方,第二传感器辊(8)放置在收卷辊(9)的上方。
7.根据权利要求1所述的卷绕式真空镀膜机,其特征在于:
所述温度控制辊表面温度范围为0-800℃,其发热方式为内部发热丝产热。
8.根据权利要求1所述的卷绕式真空镀膜机,其特征在于:
所述再处理箱(1)中设有多个通气管道,通气管道均充入惰性保护气体;
所述第一镀膜室(21)、第二镀膜室(14)和第三镀膜室(10)中设有布气管道,分别为第一布气管道(18)、第二布气管道(15)和第三布气管道(12),其中第一布气管道(18)和第三布气管道(12)充入氩气工作气体,所述第二布气管道(15)充入惰性保护气体。
9.根据权利要求1所述的卷绕式真空镀膜机,其特征在于:
所述再处理箱(1)、第一镀膜室(21)、第二镀膜室(14)和第三镀膜室(10)中均设置有真空计(23)。
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